0化4] 圖5A-5F示出了在所述X、Y和/或Z方向上相對于處理腔室底部501B中的排氣口 513 與閥座512的排氣口閥514的示例性移動，所述移動為處理腔室氣流控制設(shè)備200、300和/或 400中的任何一個可經(jīng)配置執(zhí)行的。例如，圖5A示出了排氣口閥514或者在關(guān)閉位置或相對 于排氣口 513與閥座512在Z方向位置上移動(如圖5E中所示）。排氣口閥514可經(jīng)配置W通過 繞軸R525的徑向路徑P525在所述X和/或Y方向上移動，所述軸從閥514的中屯、巧30偏移。徑 向路徑P525的半徑可為軸R525與中屯、巧30之間的距離D。徑向路徑P525可類似于，例如，由 設(shè)備400的偏移軸R425與中屯、C430所產(chǎn)生的所述徑向路徑。經(jīng)由在Z方向上移動足W清空處 理腔室的閥座512與底座501B的量后，排氣口閥514可通過在沿徑向路徑P525旋轉(zhuǎn)至點538 而在所述X方向上移動，如圖5B與5F中所示。運可產(chǎn)生排氣口開口 513B。類似地，排氣口閥 514沿徑向路徑P525旋轉(zhuǎn)至點540(如圖5C及圖5F所示)可產(chǎn)生排氣口開口 513C。另外，排氣 口閥514沿徑向路徑P525旋轉(zhuǎn)至點542 (如圖抓及圖5F所示)可產(chǎn)生排氣口開口 513D。其它的 開口是可能的?？捎膳艢饪陂y514沿徑向路徑P525旋轉(zhuǎn)而產(chǎn)生的所述各種開口可允許處理 腔室中的氣流模式如所期望地被調(diào)整。
[0055]圖6依據(jù)一個或多個【具體實施方式】示出了調(diào)整在處理腔室內(nèi)的處理氣體的流動的 方法600。在處理區(qū)塊602,方法600可包含提供具有排氣口的處理腔室。在某些具體實施方 式中，所述處理腔室可為，例如，任何一種具有相應(yīng)排氣口 113-413的處理腔室102-402，如 圖1-4C中所示。
[0化6] 在處理區(qū)塊604,可提供閥，所述閥經(jīng)配置W密封所述排氣口且經(jīng)配置W在所述X、 Y及Z方向上相對于所述排氣口而移動。例如，在某些【具體實施方式】中，所述閥可為閥hash 的任何一個 ，如圖 1-抓中所示。
[0057] 在處理區(qū)塊606,方法600可包含通過在所述X、Y及Z方向中的一個或多個方向上移 動所述閥而調(diào)整所述處理腔室中的氣流模式。例如，在某些【具體實施方式】中，處理腔室中的 氣流模式可通過移動排氣口閥514而調(diào)整，如圖5B-抓中所示。
[0058] 方法600的W上所述處理區(qū)塊可依次序或順序而實施或執(zhí)行，而不受限于所顯示 及所描述的次序和順序。例如，在某些【具體實施方式】中，處理區(qū)塊604可在處理區(qū)塊602之前 或與處理區(qū)塊602同時執(zhí)行。
[0059]本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)輕易地意識到在此所描述的本發(fā)明的【具體實施方式】可具有廣 泛的實用性及應(yīng)用。在不脫離本發(fā)明的本質(zhì)或范圍下，除了在此所描述的【具體實施方式】和 調(diào)整之外的本發(fā)明的許多【具體實施方式】與調(diào)整，W及許多變化、改良及等效安排，將顯而易 見于，或合理地建議于本發(fā)明及本發(fā)明的前述描述中。例如，雖然在此描述為被使用于電子 裝置制造系統(tǒng)的處理腔室中，但是依據(jù)本發(fā)明的一個或多個【具體實施方式】的處理腔室氣流 控制設(shè)備可用于任何合適的腔室或結(jié)構(gòu)，所述腔室或結(jié)構(gòu)接收氣流且具有排氣口。因此，雖 然本發(fā)明在此詳細地依據(jù)特定【具體實施方式】進行描述，但是應(yīng)當理解的是，此公開內(nèi)容僅 為例示性的和為呈現(xiàn)本發(fā)明的范例，且僅為用于提供本發(fā)明的完整和能夠?qū)崿F(xiàn)的公開內(nèi)容 的目的而制作。此公開內(nèi)容并非旨在將本發(fā)明限制為所公開的特定設(shè)備、裝置、組件、系統(tǒng) 或方法，而恰恰相反，本發(fā)明旨在涵蓋所有落入本發(fā)明的范圍之內(nèi)的改良、等效形式及替代 形式。
【主權(quán)項】
1. 一種處理腔室氣流控制設(shè)備，包括： 處理腔室，所述處理腔室經(jīng)配置以在處理腔室中處理基板，所述處理腔室具有排氣口； 及 閥，所述閥經(jīng)配置以密封所述排氣口且經(jīng)配置以在Χ、γ及Z方向上相對于所述排氣口移 動，以調(diào)整所述處理腔室內(nèi)的氣流模式。2. 如權(quán)利要求1所述的處理腔室氣流控制設(shè)備，進一步包括多個致動器，所述致動器耦 接至所述閥且經(jīng)配置以在所述Χ、Υ及Ζ方向上移動所述閥。3. 如權(quán)利要求2所述的處理腔室氣流控制設(shè)備，其中所述多個致動器包含至少一個旋 轉(zhuǎn)致動器，所述旋轉(zhuǎn)致動器經(jīng)配置以在所述X及Υ方向上移動所述閥；或者所述多個致動器 包含至少一個線性致動器，所述線性致動器經(jīng)配置以在所述Ζ方向上移動所述閥。4. 如權(quán)利要求1所述的處理腔室氣流控制設(shè)備，進一步包括： 多個致動器，所述多個致動器經(jīng)配置以在所述Χ、Υ及Ζ方向上移動所述閥； 支撐臂組件，所述支撐臂組件耦接至所述多個致動器;及 滑動構(gòu)件，所述滑動構(gòu)件耦接至所述多個致動器的中一個并且耦接至所述閥，且所述 滑動構(gòu)件經(jīng)配置以調(diào)整介于所述排氣口的中心與旋轉(zhuǎn)軸之間的偏移。5. 如權(quán)利要求1所述的處理腔室氣流控制設(shè)備，進一步包括： 多個線性致動器，所述線性致動器經(jīng)配置以在所述Ζ方向上移動所述閥； 旋轉(zhuǎn)致動器，所述旋轉(zhuǎn)致動器經(jīng)配置以在所述X及Υ方向上移動所述閥；及 多個可旋轉(zhuǎn)關(guān)節(jié)臂，每個所述可旋轉(zhuǎn)關(guān)節(jié)臂耦接至所述閥和所述多個線性致動器中相 應(yīng)的一個，其中所述多個可旋轉(zhuǎn)關(guān)節(jié)臂中的一個被耦接至所述旋轉(zhuǎn)致動器。6. 如權(quán)利要求1所述的處理腔室氣流控制設(shè)備，進一步包括致動器及臂，所述臂具有第 一端及第二端，所述第一端在從所述閥的所述中心偏移的位置可旋轉(zhuǎn)地耦接至所述閥，所 述第二端可旋轉(zhuǎn)地耦接至所述致動器，其中所述臂經(jīng)配置以通過在所述第二端的連接器在 所述Ζ方向上移動。7. -種電子裝置制造系統(tǒng)，所述電子裝置制造系統(tǒng)包括： 處理腔室，所述處理腔室經(jīng)配置以在處理腔室中處理基板，所述處理腔室具有排氣口； 處理氣體入口，所述處理氣體入口耦接至所述處理腔室且經(jīng)配置以引導處理氣體進入 所述處理腔室中；及 閥，所述閥經(jīng)配置以密封所述排氣口且經(jīng)配置以在Χ、Υ及Ζ方向上相對于所述排氣口移 動，以調(diào)整所述處理腔室內(nèi)的氣流模式。8. 如權(quán)利要求7所述的電子裝置制造系統(tǒng)，進一步包括至少一個致動器，所述致動器耦 接至所述閥且經(jīng)配置以在所述Χ、Υ及Ζ方向上移動所述閥，并且其中，所述處理氣體入口和 所述排氣口在所述處理腔室的相對側(cè)邊上。9. 如權(quán)利要求7所述的電子裝置制造系統(tǒng)，進一步包括： 多個致動器，所述致動器經(jīng)配置以在所述Χ、Υ及Ζ方向上移動所述閥； 支撐臂組件，所述支撐臂組件耦接至所述多個致動器;及 滑動構(gòu)件，所述滑動構(gòu)件耦接至所述多個致動器的中一個并且耦接至所述閥，且所述 滑動構(gòu)件經(jīng)配置以調(diào)整介于所述排氣口的中心與旋轉(zhuǎn)軸之間的偏移。10. 如權(quán)利要求7所述的電子裝置制造系統(tǒng)，進一步包括： 多個線性致動器，所述線性致動器經(jīng)配置以在所述Z方向上移動所述閥； 旋轉(zhuǎn)致動器，所述旋轉(zhuǎn)致動器經(jīng)配置以在所述X及Y方向上移動所述閥；及 多個可旋轉(zhuǎn)關(guān)節(jié)臂，每個所述可旋轉(zhuǎn)關(guān)節(jié)臂耦接至所述閥和所述多個線性致動器中相 應(yīng)的一個，其中所述多個可旋轉(zhuǎn)關(guān)節(jié)臂中的一個被耦接至所述旋轉(zhuǎn)致動器。11. 如權(quán)利要求7所述的電子裝置制造系統(tǒng)，進一步包括致動器及臂，所述臂具有第一 端及第二端，所述第一端在從所述閥的所述中心偏移的位置可旋轉(zhuǎn)地耦接至所述閥，所述 第二端可旋轉(zhuǎn)地耦接至所述致動器，其中所述臂經(jīng)配置以通過在所述第二端的連接器在所 述Z方向上移動。12. -種調(diào)整處理腔室內(nèi)的處理氣體流動的方法，所述方法包括： 提供具有排氣口的處理腔室； 提供閥，所述閥經(jīng)配置以密封所述排氣口且經(jīng)配置以在X、Y及Z方向上相對于所述排氣 口移動;及 通過在所述Χ、Υ及Ζ方向中的一個或多個方向上移動所述閥而調(diào)整所述處理腔室中的 氣流模式。13. 如權(quán)利要求12所述的方法，其中所述調(diào)整包括:致動一個或多個耦接至所述閥的致 動器，以在所述X、Υ及Ζ方向中的一個或多個方向上移動所述閥。14. 如權(quán)利要求12所述的方法，進一步包括:提供一個或多個旋轉(zhuǎn)致動器，所述旋轉(zhuǎn)致 動器經(jīng)配置以在所述X和Υ方向中的一個或多個方向上移動所述閥；或者提供一個或多個線 性致動器，所述線性致動器經(jīng)配置以在所述Ζ方向上移動所述閥。15. 如權(quán)利要求12所述的方法，進一步包括:調(diào)整介于所述排氣口的中心與旋轉(zhuǎn)軸之間 的偏移。
【專利摘要】處理腔室氣流控制設(shè)備可包含處理腔室或被包含于處理腔室，所述處理腔室經(jīng)配置以在處理腔室中處理基板。所述氣流控制設(shè)備可包含閥，所述閥經(jīng)配置以密封所述處理腔室中的排氣口。所述閥可在X、Y及Z方向上相對于所述排氣口為可移動的，以調(diào)整所述處理腔室內(nèi)的氣流模式(包含，例如，流動速率和/或流動均勻性)。調(diào)整處理腔室內(nèi)處理氣體流動的方法也被提供，如同其它方面。
【IPC分類】C23C16/44, C23C16/52
【公開號】CN105723012
【申請?zhí)枴緾N201480061816
【發(fā)明人】尼爾·瑪利, 昌達瑞坎特·M·沙普卡里, 伊賈·克雷默曼, 杰弗里·C·赫金斯
【申請人】應(yīng)用材料公司
【公開日】2016年6月29日
【申請日】2014年11月21日
【公告號】US20150145413, WO2015080983A1