載體膜優(yōu)選含有熱塑性聚合物，特別是聚乙烯醇縮丁醛(PVB)、乙烯乙酸乙烯酯(EVA)、聚氨酯(I3U)、聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯(PET)或其組合。
[0064]該透明基板也可以例如經(jīng)由間隔條粘合到第二玻璃板上以形成隔熱玻璃窗單元。該透明基板也可以經(jīng)由層壓膜和/或間隔條粘合到多于一個(gè)其它玻璃板上。如果該透明基板粘合到一個(gè)或多個(gè)其它玻璃板上，這些其它玻璃板中的一個(gè)或多個(gè)也可具有導(dǎo)電涂層。
[0065]在一個(gè)特別有利的實(shí)施方案中，該導(dǎo)電涂層帶有適合施加電壓的裝置并因此可加熱?；蛘?，該導(dǎo)電涂層也可以不加熱地使用，例如用于屏蔽紅外輻射，借此降低直射太陽光造成的車內(nèi)變熱。
[0066]優(yōu)選地，該導(dǎo)電涂層經(jīng)由匯流條連接到電壓源上并且施加在該導(dǎo)電涂層上的電壓優(yōu)選具有12 V至15 V的值。匯流條用于轉(zhuǎn)移電力。從DE 103 33 618 B3和EP O 025 755BI中獲知合適的匯流條的實(shí)例。
[0067]有利地通過印刷導(dǎo)電糊制造匯流條。如果在施加導(dǎo)電涂層后彎曲透明基板，優(yōu)選在透明基板彎曲前和/或彎曲時(shí)烘烤該導(dǎo)電糊。該導(dǎo)電糊優(yōu)選含有銀粒子和玻璃料。烘烤的導(dǎo)電糊的層厚度優(yōu)選為5微米至20微米。
[0068]在另一實(shí)施方案中，使用薄和窄的金屬箔條或金屬絲作為匯流條，其優(yōu)選含有銅和/或鋁；特別使用厚度為優(yōu)選10微米至200微米，例如大約50微米的銅箔條。銅箔條的寬度優(yōu)選為I毫米至10毫米?？梢岳缤ㄟ^焊接或用導(dǎo)電粘合劑膠粘制造導(dǎo)電涂層與匯流條之間的電接觸。如果透明基板是復(fù)合玻璃的一部分，可以在復(fù)合層組裝過程中將金屬箔條或金屬絲置于導(dǎo)電涂層上。在隨后的壓熱過程中，通過熱和壓力的作用實(shí)現(xiàn)匯流條與涂層之間的可靠電接觸。
[0069]在汽車領(lǐng)域中，通常使用箔導(dǎo)體作為用于接觸復(fù)合玻璃板內(nèi)部的匯流條的引線。在 DE 42 35 063 AU DE 20 2004 019 286 Ul 和 DE 93 13 394 Ul 中描述了箔導(dǎo)體的實(shí)例。
[0070]撓性箔導(dǎo)體，有時(shí)也被稱作“扁導(dǎo)體”或“平帶導(dǎo)體”優(yōu)選由具有0.03毫米至0.1毫米厚度和2毫米至16毫米寬度的鍍錫銅條制成。銅經(jīng)證實(shí)成功用于此類導(dǎo)電帶，因?yàn)槠渚哂辛己玫碾妼?dǎo)率以及良好的可加工成箔的性質(zhì)。同時(shí)，材料成本低。也可以使用可加工成箔的其它導(dǎo)電材料。其實(shí)例是鋁、金、銀或錫及其合金。
[0071]為了電絕緣和為了穩(wěn)定化，將該鍍錫銅條施加在由塑料制成的載體材料上或在兩面上都與其層壓。該絕緣材料通常含有0.025毫米至0.05毫米厚的聚酰亞胺基薄膜。也可以使用具有所需絕緣性質(zhì)的其它塑料或材料?；ハ嚯姼綦x的多個(gè)導(dǎo)電層可位于一個(gè)箔導(dǎo)體條中。
[0072]適合接觸復(fù)合玻璃板中的導(dǎo)電層的箔導(dǎo)體具有僅0.3毫米的總厚度。這樣的薄箔導(dǎo)體可以毫無困難地嵌在各玻璃板之間的層壓膜中。
[0073]或者，也可以使用細(xì)金屬絲作為引線。該金屬絲特別含有銅、鎢、金、銀或鋁或至少兩種這些金屬的合金。該合金還可含有鉬、錸、鋨、銥、鈀或鉑。
[0074]本發(fā)明還包括制造本發(fā)明的具有導(dǎo)電涂層的透明玻璃板的方法，其中在透明基板上相繼施加至少兩個(gè)功能層，并為了施加各功能層，相繼施加至少
a)一個(gè)具有大于或等于2.1的折光指數(shù)的光學(xué)高折射材料層，
b)含有至少一種非晶氧化物的平滑層，
c)下方匹配層，
d)導(dǎo)電層，和
e)上方匹配層
且其中下方匹配層和/或上方匹配層與其中所含的吸氣材料同時(shí)施加。
[0075]各層通過本身已知的方法，例如通過磁場(chǎng)輔助的陰極濺射沉積。陰極濺射在保護(hù)性氣氛，例如氬氣或氪氣中或在反應(yīng)性氣氛中，例如通過添加氧氣或氮?dú)膺M(jìn)行。
[0076]上方匹配層和/或下方匹配層，在含有吸氣材料的情況下，在使用惰性氣體下通過磁場(chǎng)輔助的陰極濺射沉積。使用陶瓷靶作為靶。在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施方案中，使用被吸氣材料，優(yōu)選被鈦摻雜的氧化鋅基陶瓷靶。金屬靶無法用于在本發(fā)明的方法中沉積含吸氣材料的匹配層，因?yàn)檫@些必須在氧存在下沉積以產(chǎn)生陶瓷層，例如氧化鋅，且靶中所含的吸氣材料會(huì)被氧化。借助陶瓷靶，鋅已經(jīng)以氧化形式作為氧化鋅存在，以使這可以用氬氣或氪氣作為惰性氣體沉積。靶中所含的吸氣材料，例如鈦未被氧化。
[0077]上方匹配層和/或上方匹配層優(yōu)選通過含有I重量％至10重量％，優(yōu)選2重量％至8重量％，特別優(yōu)選3重量％至7重量％的吸氣材料的陶瓷靶的陰極射線濺射沉積。該陶瓷靶優(yōu)選基于氧化鋅。在一個(gè)特別優(yōu)選的實(shí)施方案中，該氧化鋅基陶瓷含有95重量％至99重量％ ZnO和I重量％至5重量％ A1203°這種氧化鋅基陶瓷以90重量％至100重量％的比例構(gòu)成用于沉積匹配層的靶的主要組分。如果所得匹配層要含有吸氣材料，用于沉積其的靶含有90重量％至99重量％的氧化鋅基陶瓷以及I重量％至10重量％的吸氣材料，優(yōu)選92重量％至98重量％的氧化鋅基陶瓷和2重量％至8重量％的吸氣材料，特別優(yōu)選93重量％至97重量％的氧化鋅基陶瓷和3重量％至7重量％的吸氣材料。
[0078]本發(fā)明的含吸氣材料的匹配層優(yōu)選使用脈沖恒電壓源以氬氣作為惰性氣體在0.5微巴至5微巴的壓力下沉積。特別優(yōu)選使用在濺射程序過程中具有相反的周期變化電荷的兩個(gè)靶通過在25 kHz至50 kHz下的多頻陰極濺射進(jìn)行該沉積。
[0079]通過在上述層厚度范圍內(nèi)模擬，本領(lǐng)域技術(shù)人員以簡(jiǎn)單方式得出在透射比、面電阻和顏色值方面具有所需性質(zhì)的各層的層厚度。
[0080]在本發(fā)明的一個(gè)有利實(shí)施方案中，將導(dǎo)電涂層連接到至少兩個(gè)匯流條上，將透明基板和第二玻璃板加熱至5 O O °C至7 O O °C的溫度并將透明基板和第二玻璃板整面地(flaechendeckend)粘合到層壓膜上。玻璃板的加熱可以在彎曲過程中進(jìn)行。該導(dǎo)電涂層必須特別適合承受彎曲過程和/或?qū)訅哼^程而不受損。通常通過加熱改進(jìn)上述導(dǎo)電涂層的性質(zhì)，特別是面電阻。
[0081]本發(fā)明還包括本發(fā)明的透明玻璃板作為窗玻璃或作為窗玻璃的一部分，特別是作為建筑物中或陸地、空中或水上交通運(yùn)輸工具中，特別是機(jī)動(dòng)車中的隔熱玻璃窗單元或復(fù)合窗玻璃的一部分，例如作為擋風(fēng)玻璃、后窗玻璃、側(cè)窗玻璃和/或車頂窗玻璃或作為擋風(fēng)玻璃、后窗玻璃、側(cè)窗玻璃和/或車頂窗玻璃的一部分的用途。
[0082]下面參照附圖和示例性實(shí)施方案詳細(xì)解釋本發(fā)明。附圖是示意性的并且不按比例。附圖決不限制本發(fā)明。
[0083]它們描繪了:
圖1是本發(fā)明的具有導(dǎo)電涂層的透明玻璃板的一個(gè)實(shí)施方案的橫截面。
[0084]圖2是作為復(fù)合玻璃板的一部分的本發(fā)明的透明玻璃板的平面視圖。
[0085]圖3是圖2的復(fù)合玻璃板的橫截面A-A’。
[0086]圖4是本發(fā)明的方法的流程圖。
[0087]圖1描繪帶有透明基板⑴和導(dǎo)電涂層(2)的本發(fā)明的具有導(dǎo)電涂層的透明玻璃板的一個(gè)實(shí)施方案的橫截面?；?I)含有浮法玻璃并具有2.1毫米的厚度。導(dǎo)電涂層(2)含有三個(gè)功能層(3)，包含第一功能層(3.1)、第二功能層(3.2)和第三功能層(3.3)，它們整面地地互相疊加布置。各功能層(3)包含 -一個(gè)光學(xué)高折射材料層(4)，分別被稱作第一光學(xué)高折射材料層(4.1)、第二光學(xué)高折射材料層(4.2)和第三光學(xué)高折射材料層(4.3)，
-平滑層(5)，分別被稱作第一平滑層(5.1)、第二平滑層(5.2)和第三平滑層(5.3)，-下方匹配層(6)，分別被稱作第一下方匹配層(6.1)、第二下方匹配層(6.2)和第三下方匹配層(6.3)，
-包含在第一下方匹配層(6.1)、第二下方匹配層(6.2)和第三下方匹配層(6.3)中的吸氣材料(10)，
-導(dǎo)電層(7)，分別被稱作第一導(dǎo)電層(7.1)、第二導(dǎo)電層(7.2)和第三導(dǎo)電層(7.3)，-上方匹配層(8)，分別被稱作第一上方匹配層(8.1)、第二上方匹配層(8.2)和第三上方匹配層(8.3) ο
[0088]這些層以距透明基板⑴漸遠(yuǎn)的所示次序布置。在第三功能層(3.3)上方布置覆蓋層(9)。功能層(3.1、3.2、3.3)的確切的層序以及合適的材料和示例性層厚度從下往上是，以厚度2.1毫米的玻璃作為透明基板(I):
-鋁摻雜的混合硅/鋯氮化物(SiZrNx = Al)作為具有28納米(4.1)、59納米(4.2)或60納米(4.3)厚度的光學(xué)高折射材料層(4)，
-具有6納米厚度的銻摻雜的混合錫/鋅氧化物(SnZnOx:Sb)作為平滑層(5)，
-具有10納米厚度的鈦摻雜的鋅/鋁氧化物(ZnO = Al2O3:Ti)作為含吸氣材料(10)的下方匹配層(6)，
-具有18納米厚度的銀層作為導(dǎo)電層(7)，
-具有5納米厚度的鋅/鋁氧化物(ZnO = Al2O3)作為上方匹配層(8)。
[0089]第一功能層(3.1)直接施加在透明基板(I)上，而第二功能層(3.2)布置在第一功能層上，第三功能層(3.3)布置在第二功能層(3.2)上。
[0090]導(dǎo)電涂層⑵的最上層構(gòu)成施加在第三功能層(3.3)上的覆蓋層(9)。覆蓋層(9)由鋁摻雜的混合硅/鋯氮化物(SiZrNx = Al)制成，其具有40納米的層厚度。
[0091]通過陰極射線濺射沉積導(dǎo)電涂層(2)的各層。用于沉積下方匹配層(6)的靶含有95重量％氧化鋅基陶瓷和5重量％鈦。該氧化鋅基陶瓷含有98重量％ ZnO和2重量％Al2O3O用于沉積上方匹配層⑶的靶由含有98重量％ ZnO和2重量％ Al2O3的這種氧化鋅基陶瓷構(gòu)成。在氬氣存在下使用陰極濺射進(jìn)行匹配層出、8)的沉積。用于沉積平滑層(5)的靶含有68重量％錫、30重量％鋅和2重量％銻。在陰極濺射過程中在添加氧氣作為反應(yīng)氣體下進(jìn)行沉積。用于沉積光學(xué)高折射材料層(4)以及覆蓋層(9)的靶含有52.9重量％硅、43.8重量％鋯和3.3重量％鋁。在陰極濺射過程中在添加氮?dú)庾鳛榉磻?yīng)氣體下進(jìn)行沉積。
[0092]通過具有含吸氣材料(10)的下方匹配層(6)的導(dǎo)電涂層(2)的根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方案，有利地獲