孔5按照從一個(gè)主表面2向另一個(gè)主表面3貫通的方式進(jìn)行設(shè)置。在主表面2與內(nèi)周端面4之間、以及主表面3與內(nèi)周端面4之間分別形成有倒角部7。在主表面2于外周端面6之間、以及主表面3與外周端面6之間形成有倒角部8 (倒棱部)。
[0051]玻璃基板I的尺寸例如為0.8英寸、1.0英寸、1.8英寸、2.5英寸或3.5英寸?？梢詾樯鲜鲆韵禄蛏鲜鲆陨系挠⒋绯叽?。從防止破損的方面出發(fā)，玻璃基板的厚度例如為
0.30mm?2.2mm。本實(shí)施方式中的玻璃基板的尺寸是外徑約為64mm、內(nèi)徑約為20mm、厚度約為0.8mm。玻璃基板的厚度是指由在作為玻璃基板上的點(diǎn)對(duì)象的任意2個(gè)以上的點(diǎn)所測(cè)定的值的平均所算出的值。從玻璃基板的高硬度化的方面出發(fā)，玻璃基板I的維氏硬度可以為610kg/mm2以上。
[0052](信息記錄介質(zhì)10)
[0053]圖4是示出具備玻璃基板I作為信息記錄介質(zhì)的信息記錄介質(zhì)10的俯視圖。圖5是沿著圖4中的V-V線的箭頭方向觀察截面圖。
[0054]如圖4和圖5所示，信息記錄介質(zhì)10包含玻璃基板1、壓縮應(yīng)力層12和磁記錄層
14。壓縮應(yīng)力層12以覆蓋玻璃基板I的主表面2、3、內(nèi)周端面4和外周端面6的方式形成。磁記錄層14以覆蓋壓縮應(yīng)力層12的主表面2、3上的規(guī)定區(qū)域的方式形成。通過在玻璃基板I的內(nèi)周端面4上形成壓縮應(yīng)力層12，在內(nèi)周端面4的內(nèi)側(cè)形成孔15。利用孔15，信息記錄介質(zhì)10相對(duì)于設(shè)置于殼體20 (參照?qǐng)D1)上的主軸電機(jī)而被固定。
[0055]在圖5所示的信息記錄介質(zhì)10中，在形成于主表面2上的壓縮應(yīng)力層12和形成于主表面3上的壓縮應(yīng)力層12雙方(兩個(gè)面)上形成有磁記錄層14。磁記錄層14可以僅設(shè)置于形成于主表面2上的壓縮應(yīng)力層12之上(單面)，也可以設(shè)置于形成于主表面3上的壓縮應(yīng)力層12之上(單面)。
[0056]磁記錄層14通過將分散有磁性顆粒的熱固化性樹脂旋涂于玻璃基板I的主表面
2、3上的壓縮應(yīng)力層12而形成(旋涂法)。磁記錄層14可以通過對(duì)玻璃基板I的主表面
2、3上的壓縮應(yīng)力層12所實(shí)施的濺射法或非電解鍍法等形成。
[0057]關(guān)于磁記錄層14的膜厚，在旋涂法的情況下為約0.3 μ m?1.2 μ m，在派射法的情況下為約0.04 μ m?0.08 μ m，在非電解鍍法的情況下為約0.05 μ m?0.1 μ m。從薄膜化和高密度化的方面出發(fā)，磁記錄層14可以通過濺射法或非電鍍法形成。
[0058]作為用于磁記錄層14的磁性材料，使用Fe-Pt系磁性材料作為適合于熱輔助記錄用的磁性層材料。
[0059]為了改善磁頭的滑動(dòng)，可以在磁記錄層14的表面薄薄地涂布潤(rùn)滑劑。作為潤(rùn)滑劑，例如可以舉出將作為液體潤(rùn)滑劑的全氟聚醚(PFPE)用氟利昂系等溶劑稀釋而成的物質(zhì)。
[0060]在磁記錄層14可以根據(jù)需要設(shè)置基底層或保護(hù)層。信息記錄介質(zhì)10中的基底層可以根據(jù)磁性膜的種類來選擇。作為基底層的材料，可以舉出例如選自Cr、Mo、Ta、T1、W、V、B、A1或Ni等非磁性金屬中的至少一種以上的材料。
[0061]設(shè)置于磁記錄層14的基底層不限于單層，也可以為將相同種類或不同種類的層層積而成的多層結(jié)構(gòu)。例如，可以為Cr/Cr、Cr/CrMo、Cr/CrV、NiAl/Cr、NiAl/CrMo或NiAl/CrV等多層基底層。
[0062]作為防止磁記錄層14的磨耗和腐蝕的保護(hù)層，例如可以舉出Cr層、Cr合金層、碳層、碳?xì)浠衔飳印⒀趸唽?、或二氧化硅層。這些保護(hù)層可以與基底層和磁性膜等一同用聯(lián)機(jī)型濺射裝置連續(xù)形成。這些保護(hù)層可以為單層，或者可以為由相同種類或不同種類的層構(gòu)成的多層結(jié)構(gòu)。
[0063]在上述保護(hù)層上可以形成其它保護(hù)層，或者可以代替上述保護(hù)層而形成其它保護(hù)層。例如，代替上述保護(hù)層，可以在用醇系溶劑稀釋四烷氧基硅烷而成的物質(zhì)中分散膠態(tài)二氧化娃微粒，并涂布至Cr層上，進(jìn)而燒制形成二氧化娃(S12)層。
[0064](玻璃基板的制造方法)
[0065]接著，使用圖6所示的流程圖對(duì)本實(shí)施方式中的玻璃基板(信息記錄介質(zhì)用玻璃基板)的制造方法SlOO進(jìn)行說明。本實(shí)施方式中的玻璃基板的制造方法SlOO具備平板玻璃成型工序S10、切割工序S20、端面研磨工序S30、粗研磨工序S40、清洗工序S50、化學(xué)強(qiáng)化工序S60、精密研磨工序S70和擦洗工序S80。
[0066]對(duì)通過經(jīng)過擦洗工序S80所得到的玻璃基板實(shí)施磁性薄膜形成工序S200。通過經(jīng)過磁性薄膜形成工序S200，得到信息記錄介質(zhì)10(參照?qǐng)D4和圖5)。下面，對(duì)構(gòu)成玻璃基板的制造方法SlOO的各工序SlO?S80的詳細(xì)情況依次進(jìn)行說明。
[0067](平板玻璃成型工序S10)
[0068]首先，在平板玻璃成型工序SlO中，將熔融玻璃料作為材料，利用浮法制造平板玻璃。本實(shí)施的浮法的詳細(xì)情況如后所述。
[0069]作為構(gòu)成熔融玻璃的各成分的原料，使用各自相對(duì)應(yīng)的氧化物、碳酸鹽、硝酸鹽、氫氧化物等，以所期望的比例進(jìn)行稱量，以粉末形式充分混合，制成調(diào)合原料。調(diào)合原料例如投入到加熱至1600°C的熔解槽中，在熔融澄清后進(jìn)行浮法成型，進(jìn)行退火而形成平板玻璃。
[0070]作為玻璃基板的材質(zhì)，例如可以利用非晶玻璃、結(jié)晶化玻璃。也可以對(duì)玻璃基板實(shí)施化學(xué)強(qiáng)化處理。該情況下，可以提供在玻璃基板表面的強(qiáng)度品質(zhì)方面優(yōu)異的信息記錄介質(zhì)用玻璃基板。
[0071](切割工序S20)
[0072]再次參照?qǐng)D6，在切割工序S20中，使用圓筒狀的金剛石鉆頭在該玻璃基板的中心部形成內(nèi)孔，成型出圓環(huán)狀的玻璃基板(鉆芯加工)。其后，利用金剛石磨石對(duì)內(nèi)周端面和外周端面進(jìn)行磨削，實(shí)施規(guī)定的倒角加工(成型、倒棱)。在切割工序后進(jìn)行對(duì)主表面實(shí)施拋光(磨削)的拋光工序，之后可以移至端面研磨工序。
[0073](端面研磨工序S30)
[0074]端面研磨工序S30中，利用具有螺旋狀刷毛材料的研磨刷對(duì)玻璃基板I的內(nèi)周端面和外周端面進(jìn)行研磨。向研磨刷與玻璃基板I的各端面之間供給研磨漿料，同時(shí)以使研磨刷與各端面抵接的狀態(tài)進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。在將玻璃基板I浸漬到研磨液中的狀態(tài)下，以使研磨刷與各端面抵接的狀態(tài)進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。
[0075](粗研磨工序S40)
[0076]對(duì)于內(nèi)周端面和外周端面被研磨后的玻璃基板1，分多次對(duì)主表面2、3進(jìn)行粗糙的研磨。例如，分成第I粗研磨和第2粗研磨工序這兩次對(duì)主表面2、3進(jìn)行研磨。通過慢慢地提高玻璃基板I的精加工精度，可以得到具有平滑性和平坦性高的表面的玻璃基板I。分成兩次進(jìn)行粗研磨的情況下，第I粗研磨工序的主要目的是除去殘存于主表面2、3的傷痕和變形，第2粗研磨工序的目的是將主表面2、3精加工成鏡面狀。
[0077](清洗工序S50)
[0078]粗研磨工序S40后，對(duì)玻璃基板I實(shí)施利用酸性清洗液的清洗處理。該清洗處理的目的是從玻璃基板I的表面除去在作為前工序的粗研磨工序S40中用作研磨漿料的氧化鈰、氧化鋯或硅酸鋯中的任一種。
[0079]具體地說，從粗研磨工序S40中使用的研磨墊卸下粗研磨后的玻璃基板1，之后用含有硫酸和/或氫氟酸等的清洗液一邊對(duì)玻璃基板I的表面進(jìn)行蝕刻一邊清洗。附著于玻璃基板I的表面的氧化鈰、氧化鋯或硅酸鋯等研磨漿料可通過硫酸和/或氫氟酸等的強(qiáng)酸性的清洗液適當(dāng)除去。之后，利用酸性的清洗液來清洗玻璃基板I。
[0080]清洗工序S50中所用的清洗液還根據(jù)玻璃基板I的耐化學(xué)性而有所不同，若為硫酸則優(yōu)選1%?30%左右的濃度，若為氫氟酸則優(yōu)選0.2%?5%左右的濃度。使用這些清洗液的清洗可以一邊在存積有水溶液的清洗機(jī)中施加超聲波一邊進(jìn)行。此時(shí)使用的超聲波的頻率優(yōu)選為78kHz以上。
[0081](化學(xué)強(qiáng)化工序S60)
[0082]在清洗工序S50后對(duì)玻璃基板I進(jìn)行化學(xué)強(qiáng)化。作為化學(xué)強(qiáng)化液，例如可以使用硝酸鉀(50重量％ )與硫酸鈉(50重量％ )的混合液?；瘜W(xué)強(qiáng)化液例如加熱至300°C?480°C。清洗后的玻璃基板I例如預(yù)熱為300°C?480°C。玻璃基板I在化學(xué)強(qiáng)化液中例如浸漬3小時(shí)?4小時(shí)。化學(xué)強(qiáng)化工序可以在精密研磨工序后進(jìn)行。
[0083]浸漬時(shí)，為了使玻璃基板I的主表面2、3整體進(jìn)行化學(xué)強(qiáng)化，優(yōu)選按照多個(gè)玻璃基板I在各個(gè)端面被保持的方式、以收納于支架的狀態(tài)來進(jìn)行浸漬。通過將玻璃基板I浸漬到化學(xué)強(qiáng)化液中，玻璃基板I的表層的堿金屬離子(鋰離子和鈉離子)被置換成化學(xué)強(qiáng)化液中的離子半徑相對(duì)大的化學(xué)強(qiáng)化鹽(鈉離子和鉀離子)。由此，在玻璃基板I的表層例如形成具有50 μ m?200 μ m的厚度的壓縮應(yīng)力層。
[0084]通過壓縮應(yīng)力層的形成而使玻璃基板I的表面被強(qiáng)化，玻璃基板I具有良好的耐沖擊性。經(jīng)化學(xué)強(qiáng)化處理的玻璃基板I可適宜進(jìn)行清洗。例如，玻璃基板I在用硫酸清洗后，使用純水或IPA(異丙醇)等進(jìn)一步進(jìn)行清洗。之后可以除去化學(xué)強(qiáng)化層。
[0085](精密研磨工序S70)
[0086]化學(xué)強(qiáng)化工序S60后對(duì)玻璃基板I實(shí)施精密研磨處理。精密研磨工序S70的目的是將玻璃基板I的主表面精加工成