技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明涉及一種大口徑光學(xué)元件表面劃痕暗場(chǎng)圖像的二值化方法和系統(tǒng)。其中，該方法可以包括：基于暗場(chǎng)圖像，利用Gabor濾波器，構(gòu)建線段探測(cè)單元；其中，線段探測(cè)單元包括Lc、Ll和Lr，Lc表示圖像中待檢測(cè)像素點(diǎn)的灰度值之和；Ll表示與待檢測(cè)像素點(diǎn)左側(cè)相距wu大小的灰度值之和；Lr表示與待檢測(cè)像素點(diǎn)右側(cè)相距wu大小的灰度值之和；wu表示線段探測(cè)單元的寬度；根據(jù)下式對(duì)待檢測(cè)像素點(diǎn)進(jìn)行二值化：I(u,v)>T1，Lc>Ll+T2且Lc>Lr+T2；I(u,v)表示大口徑光學(xué)元件表面劃痕暗場(chǎng)圖像中像素點(diǎn)(u,v)的灰度值；u表示像素點(diǎn)的橫坐標(biāo)；v表示像素點(diǎn)的縱坐標(biāo)；T1表示第一閾值；T2表示第二閾值。通過(guò)采用該技術(shù)方案，解決了如何準(zhǔn)確實(shí)現(xiàn)大口徑光學(xué)元件表面劃痕暗場(chǎng)圖像的二值化提取的技術(shù)問題。

技術(shù)研發(fā)人員：陶顯;張正濤;徐德;劉希龍
受保護(hù)的技術(shù)使用者：中國(guó)科學(xué)院自動(dòng)化研究所
文檔號(hào)碼：201610894348
技術(shù)研發(fā)日：2016.10.13
技術(shù)公布日：2017.03.15