垂直磁記錄介質(zhì)的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明設(shè)及垂直磁記錄介質(zhì)的制造方法的改良。
[0002] 本申請(qǐng)基于在2014年4月8日在日本申請(qǐng)的專利申請(qǐng)2014-079435號(hào)要求優(yōu)先 權(quán)，在此援引其內(nèi)容。
【背景技術(shù)】
[0003] 作為磁記錄再生裝置的一種的硬盤裝置（皿D)現(xiàn)在其記錄密度W年率50%W上 增加，據(jù)認(rèn)為今后該傾向也將繼續(xù)。因此，適于高記錄密度的磁記錄用磁頭W及磁記錄介質(zhì) 的開發(fā)在進(jìn)展著。
[0004] 現(xiàn)在，市售的磁記錄再生裝置中所裝載的磁記錄介質(zhì)，是磁性膜內(nèi)的容易磁化軸 主要垂直地取向的所謂的垂直磁記錄介質(zhì)。垂直磁記錄介質(zhì)在高記錄密度化時(shí)，記錄位 (比特）間的邊界區(qū)域中的反磁場(chǎng)的影響也較小，形成鮮明的位邊界，因此能抑制噪聲的增 加。而且，由于與高記錄密度化相伴的記錄位體積的減少較少，所W也抗熱擺效應(yīng)。因此， 近年來(lái)受到較大的關(guān)注，曾提出了適于垂直磁記錄的介質(zhì)的結(jié)構(gòu)。
[0005] 可是，在曾經(jīng)使用的面內(nèi)記錄方式的磁記錄介質(zhì)中，在非磁性基板的表面形成磁 性層等之前實(shí)施了紋理（tex化re)加工。所謂紋理加工，是下述加工；在非磁性基板的表面 形成沿著圓周方向的紋理?xiàng)l痕（微細(xì)的凹凸），使介質(zhì)表面成為適當(dāng)?shù)谋砻娲痔硕?，并且?duì) 磁記錄介質(zhì)給予圓周方向的磁各向異性。當(dāng)在非磁性基板的表面存在微細(xì)的紋理?xiàng)l痕的盤 基板上形成磁性層時(shí)，與在不存在紋理?xiàng)l痕的盤基板上形成了磁性層的情況相比，電磁轉(zhuǎn) 換特性提高。該是因?yàn)椋ㄟ^對(duì)盤基板的表面實(shí)施紋理加工，在該盤基板的表面上形成的基 底層W及磁性層的結(jié)晶取向性提高。由此，能夠提高磁性層的磁各向異性，使耐熱擺性等的 磁特性提高。
[0006] 紋理加工通過如下方式來(lái)進(jìn)行；一邊使盤基板旋轉(zhuǎn)，一邊向該盤基板的表面供給 研磨漿液，將行進(jìn)的研磨帶按壓在盤基板的表面（例如參照專利文獻(xiàn)1、2)。作為研磨液，使 用了在分散介質(zhì)中分散有金剛石磨粒等的研磨液。
[0007] 在專利文獻(xiàn)3中記載了一種垂直磁記錄介質(zhì)的制造方法，該制造方法能夠一面確 保包含Ni-P系合金的基底層的高精度的平坦面，一面自動(dòng)地除去基底層的異常突起，而且 不會(huì)對(duì)垂直磁記錄介質(zhì)的磁取向造成影響，能夠形成垂直方向的磁取向變得容易的適度的 紋理痕。
[000引在專利文獻(xiàn)4中記載了；使用氧化錯(cuò)（zirconia)作為用于抑制在硬盤的外周部發(fā) 生下塌而變?yōu)榍娴默F(xiàn)象的研磨劑。
[0009] 在專利文獻(xiàn)5中，作為用于在玻璃基板上形成同屯、圓狀的溝槽的研磨劑，公開了 氧化錯(cuò)磨粒。
[0010] 在專利文獻(xiàn)6、7中公開了在玻璃基板等的研磨中使用W低濃度含有人造金剛石 粒子的漿液。
[0011] 在先技術(shù)文獻(xiàn)
[001引專利文獻(xiàn)
[0013] 專利文獻(xiàn)1 ;日本特開2004-178777號(hào)公報(bào)
[0014] 專利文獻(xiàn)2 ;日本特開2004-259417號(hào)公報(bào)
[0015] 專利文獻(xiàn)3 ;日本特開2008-108396號(hào)公報(bào)
[0016] 專利文獻(xiàn)4 ;日本特表2003-510446號(hào)公報(bào)
[0017] 專利文獻(xiàn)5 ;日本特開2003-242632號(hào)公報(bào)
[0018] 專利文獻(xiàn)6 ;日本特開2005-310324號(hào)公報(bào)
[0019] 專利文獻(xiàn)7 ;日本特開2010-080022號(hào)公報(bào)

【發(fā)明內(nèi)容】

[0020] 在垂直磁記錄介質(zhì)的制造工序中，一般地對(duì)非磁性基板不進(jìn)行紋理加工，使用平 滑表面的非磁性基板。其原因是，在非磁性基板的表面存在凹凸和/或傷的情況下，若在該 非磁性基板的表面形成磁性膜等，則存在該凹凸和/或傷原樣地被磁記錄介質(zhì)表面繼承的 情況、和/或、在存在凹凸和/或傷的部位形成異常突起等的情況。因此，曾進(jìn)行了下述研 究；使在垂直磁記錄介質(zhì)中使用的非磁性基板經(jīng)過多級(jí)的研磨工序、拋光工序來(lái)提高其表 面的平滑性。但是，對(duì)磁記錄介質(zhì)用基板的表面要求現(xiàn)有程度之上的平滑性。在現(xiàn)有方法 中，殘留一部分的異常的突起和擦痕等，不能說(shuō)平滑化充分，需求能夠使非磁性基板的表面 的平滑性更高的研磨工藝。
[0021] 該樣的異常的突起和擦痕等大多起因于研磨材料。一般地，如果研磨液中的研磨 材料的濃度變高，則研磨力提高。另一方面，在研磨材料中混入大粒的研磨劑等異物的概率 變高，容易形成擦痕。因此，也曾研究了降低研磨材料的濃度，但研磨液的研磨力下降。為 了同時(shí)兼?zhèn)湓撔┭心チ捅砻嫫交?，曾進(jìn)行了W低濃度使用金剛石等高硬度研磨材料的 研究（專利文獻(xiàn)6化及7)。但是，金剛石等研磨材料存在粒形狀的控制較難、異形的粒子形 成擦痕該樣的問題。若為了降低該異形粒子的發(fā)生概率而進(jìn)一步降低研磨液中的研磨材料 的濃度，則存在于研磨墊與基板表面間的研磨材料粒子的數(shù)量減少，對(duì)1個(gè)研磨材粒子施 加的載荷提高，也存在更容易發(fā)生擦痕該樣的問題。
[0022] 而且，磁記錄介質(zhì)用的基板制造后直到將該基板用于磁性膜等的成膜為止經(jīng)過數(shù) 天的天數(shù)的情況較多，有時(shí)在該期間在基板的表面附著顆粒等。因此，該研磨工藝也需要盡 可能地使顆粒等對(duì)基板的附著減少。
[0023] 本申請(qǐng)發(fā)明W解決上述課題為目的，提供一種垂直磁記錄介質(zhì)的制造方法，該方 法包括形成在基板的表面形成磁性膜等的情況下不發(fā)生異常突起等的平滑的基板表面的 工序。
[0024] 本申請(qǐng)發(fā)明人為了解決上述課題而專屯、致力研究的結(jié)果發(fā)現(xiàn)；通過設(shè)置在即將進(jìn) 行在基底鍛層上形成磁性層等疊層結(jié)構(gòu)的層疊工序之前，將基底鍛層的表面進(jìn)一步平滑化 的精研磨工序，并且作為用于該精研磨工序的研磨液使用濃度遠(yuǎn)低于現(xiàn)有的研磨材料的氧 化錯(cuò)粒子，能夠得到現(xiàn)有程度之上的平滑的基板表面，從而完成了本申請(qǐng)發(fā)明。
[0025] (1) 一種垂直磁記錄介質(zhì)的制造方法，所述垂直磁記錄介質(zhì)在非磁性基板上形成 有包含NiP系合金的基底鍛層，而且在該基底鍛層之上依次層疊有軟磁性基底層、垂直磁 性層，該制造方法的特征在于，具有：
[0026] 粗研磨工序，該工序?qū)Π琋iP系合金的基底鍛層的表面進(jìn)行研磨；
[0027] 鏡面研磨工序，該工序?qū)λ龃盅心チ说幕族憣拥谋砻孢M(jìn)一步進(jìn)行鏡面研磨； [002引精研磨工序，該工序?qū)λ鲧R面研磨了的基底鍛層的表面進(jìn)一步進(jìn)行精研磨；和
[0029] 層疊工序，該工序在所述精研磨了的基底鍛層上層疊軟磁性基底層、垂直磁性層，
[0030] 在所述精研磨工序中使用的研磨液包含0. 0005質(zhì)量％~0. 05質(zhì)量％的范圍內(nèi)的 平均粒徑為lOnm~150nm的氧化錯(cuò)粒子。
[0031] (2)根據(jù)（1)所述的垂直磁記錄介質(zhì)的制造方法，其特征在于，所述氧化錯(cuò)粒子的 粒徑為50nm~150nm。
[0032] (3)根據(jù)（1)或（2)所述的垂直磁記錄介質(zhì)的制造方法，其特征在于，在所述精研 磨工序中使用的研磨液包含膠體狀的氧化錯(cuò)粒子。
[0033] (4)根據(jù)（1)~（3)的任一項(xiàng)所述的垂直磁記錄介質(zhì)的制造方法，其特征在于，所 述精研磨工序結(jié)束后直到所述層疊工序?yàn)橹沟臅r(shí)間為10小時(shí)W內(nèi)。
[0034] (5)根據(jù)（1)~（4)的任一項(xiàng)所述的垂直磁記錄介質(zhì)的制造方法，其特征在于，所 述粗研磨工序采用使用了包含氧化侶磨粒的研磨液的雙面研磨盤來(lái)進(jìn)行。
[0035] (6)根據(jù)（1)~巧）的任一項(xiàng)所述的垂直磁記錄介質(zhì)的制造方法，其特征在于，所 述鏡面研磨工序采用使用了包含膠體二氧化娃磨粒的研磨液的雙面研磨盤進(jìn)行。
[0036] (7)根據(jù)（1)~化）的任一項(xiàng)所述的垂直磁記錄介質(zhì)的制造方法，其特征在于，所 述精研磨工序通過用研磨帶夾著旋轉(zhuǎn)的基板的兩個(gè)表面、并向所述研磨帶供給研磨液來(lái)進(jìn) 行。
[0037] 根據(jù)本發(fā)明的垂直磁記錄介質(zhì)的制造方法，通過采用上述技術(shù)方案，能夠形成在 基板的表面形成磁性膜等的情況下不發(fā)生異常突起等的平滑的基板表面。
【附圖說(shuō)明】
[003引圖1是表示應(yīng)用本發(fā)明所制作的垂直磁記錄介質(zhì)的一例的截面圖。
[0039] 圖2是用于說(shuō)明本發(fā)明中的粗研磨工序W及鏡面研磨工序的立體圖。
[0040] 圖3A是用于說(shuō)明在本實(shí)施方式中應(yīng)用的對(duì)包含NiP合金的基底鍛層的表面實(shí)施 精研磨加工的工序的圖，是表示其裝置的一例的側(cè)視圖。
[0041] 圖3B是用于說(shuō)明在本實(shí)施方式中應(yīng)用的對(duì)包含NiP合金的基底鍛層的表面實(shí)施 精研磨加工的工序的圖，是表示其裝置的一例的俯視圖。
[0042] 圖4是表示使用了用本實(shí)施方式的制造方法制造出的垂直磁記錄介質(zhì)的磁記錄 再生裝置的一例的截面圖。
[0043] 圖5表示用實(shí)施例W及比較例的制造方法制造出的磁記錄介質(zhì)的缺陷狀態(tài)。
[0044] 附圖標(biāo)記說(shuō)明
[0045] 1…非磁性基板；2…基底鍛層；3…軟磁性基底層；4…取向控制層；5…垂直磁性 層；6…保護(hù)層；10…垂直磁記錄介質(zhì)；11…介質(zhì)驅(qū)動(dòng)部；12…磁頭；13…磁頭驅(qū)動(dòng)部；14- 記錄再生信號(hào)處理系統(tǒng)；20…磁記錄再生裝置；101…軸；102…噴嘴；103…供給漉；104… 卷繞漉；105…研磨帶；106…壓漉；201、202…平臺(tái)；203…研磨墊；S…研磨液；W…晶片。
【具體實(shí)施方式】
[0046] W下針對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式使用附圖來(lái)說(shuō)明其技術(shù)方案。另外，在W下的說(shuō)明中