1.一種陣列基板的制作方法，其特征在于，包括如下步驟：
在基板上依次制作第一金屬層、絕緣層、有源層和第二金屬層；
在所述基板上制作透明導(dǎo)電薄膜，所述透明導(dǎo)電薄膜覆蓋所述第二金屬層；
在所述透明導(dǎo)電薄膜上涂覆第三光刻膠，在所述第三光刻膠上遮蓋第三掩膜版，以在所述第三光刻膠上光刻出圖案，其中，所述第二金屬層在所述第三光刻膠上的投影包含于所述圖案；
對所述透明導(dǎo)電薄膜進(jìn)行刻蝕，以形成透明電極層，其中，所述透明電極層覆蓋所述第二金屬層。
2.如權(quán)利要求1所述的陣列基板的制作方法，其特征在于，所述透明電極層完全覆蓋所述第二金屬層。
3.如權(quán)利要求1所述的陣列基板的制作方法，其特征在于，所述在基板上依次制作第一金屬層、絕緣層、有源層和第二金屬層步驟中包括：在所述基板上濺射第一金屬薄膜層；在所述第一金屬薄膜層上涂覆第一光刻膠；在所述第一光刻膠上遮蓋第一掩膜版，以在所述第一光刻膠上光刻出圖案；對所述第一金屬薄膜層進(jìn)行刻蝕，以形成所述第一金屬層。
4.如權(quán)利要求1所述的陣列基板的制作方法，其特征在于，所述在基板上依次制作第一金屬層、絕緣層、有源層和第二金屬層步驟中包括：在所述有源層上濺射第二金屬薄膜層；在所述第二金屬薄膜層上涂覆第二光刻膠；在所述第二光刻膠上遮蓋第二掩膜版，以在所述第二光刻膠上光刻出圖案；對所述第二金屬薄膜層進(jìn)行刻蝕，以形成所述第二金屬層。
5.如權(quán)利要求1所述的陣列基板的制作方法，其特征在于，所述在所述基板上制作透明電極層，所述透明電極層覆蓋所述第二金屬層步驟中，包括采用物理氣相沉積法在所述基板上形成所述透明導(dǎo)電薄膜。
6.如權(quán)利要求1所述的陣列基板的制作方法，其特征在于，所述有源層包括依次層疊設(shè)置非晶硅層和摻雜層；所述在基板上依次制作第一金屬層、絕緣層、有源層和第二金屬層步驟中包括：在所述絕緣層上通過化學(xué)氣相沉積法依次形成非晶硅層和摻雜層。
7.一種陣列基板，其特征在于，包括依次層疊設(shè)置于基板上的第一金屬層、絕緣層、有源層、第二金屬層和透明電極層，所述透明電極層直接覆蓋在所述第二金屬層上。
8.如權(quán)利要求7所述陣列基板，其特征在于，所述有源層包括依次層疊設(shè)置非晶硅層和摻雜層，所述摻雜層介于所述非晶硅層和所述第二金屬層之間。
9.如權(quán)利要求7所述陣列基板，其特征在于，所述透明電極層完全覆蓋所述第二金屬層。
10.一種液晶顯示面板，其特征在于，包括權(quán)利要求7-9任意一項(xiàng)所述的陣列基板。