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基板盒清洗裝置的制造方法_5

文檔序號:8303559閱讀:來源:國知局
閘板12被打開,移載機(jī)構(gòu)30的進(jìn)退驅(qū)動(dòng)部33使機(jī)臺31與支承臺20 —同地從后退位置R2前進(jìn)到前進(jìn)位置R1,并且將支承臺20上的基板盒C交付于載置臺13 (參照圖8D、圖SC)。在該情況下,使機(jī)臺31與支承臺20 —同地前進(jìn)到前進(jìn)位置R1,但由于載置臺13形成為具有開放部14的叉狀,因此支承臺20在抬起基板盒C的狀態(tài)下通過載置臺13的開放口而移動(dòng),并被定位在前進(jìn)位置Rl。在該前進(jìn)位置Rl,上下驅(qū)動(dòng)部34使支承臺20下降,并將支承臺20的卡合凸部23從基板盒C的卡合凹部4卸下而將基板盒C載置于載置臺13 (參照圖SB)。在該情況下,由于使支承臺20本身直接移動(dòng)而利用支承臺20來進(jìn)行基板盒C的接收、交付,因此,與以往那樣地利用手臂機(jī)器人來移動(dòng)相比,變得無需把持整個(gè)基板盒,從載置臺13向支承臺20的載置不會(huì)變得復(fù)雜而變得簡易,而且,相對于載置臺13的定位也能夠容易進(jìn)行。然后,支承臺20后退到初始位置R3,在該狀態(tài)下,基板盒C從載置臺13被搬送到別處。
[0107]下面,對無需清洗外部底座Mb的外側(cè)面的情況進(jìn)行說明。在該情況下,預(yù)先對控制部100設(shè)計(jì)無需清洗外部容器M的外部底座Mb的外側(cè)面的程序。
[0108]與上述同樣地,利用搬送機(jī)構(gòu)60來搬送被支承于支承臺20的外部容器M的外部底座Mb和外部殼Ms、內(nèi)部容器N的內(nèi)部底座Nb和內(nèi)部殼Ns各部件。此時(shí),如圖1和圖19所示,最后的外部底座Mb被保持在保持部90,所述保持部90設(shè)置于第一清洗槽40的蓋43的背面。在該情況下,使保持部90的卡合凸部91與外部底座Mb的卡合凹部4卡合,并且利用吸附盤92來吸附外部底座Mb。因此,能夠防止外部底座Mb向左右前后活動(dòng)的情況,能夠可靠地被保持在保持部90。
[0109]在該狀態(tài)下,將蓋43關(guān)閉而進(jìn)行清洗。在該情況下,由于外部底座Mb的外側(cè)面被覆蓋,因此清洗液能夠到達(dá)內(nèi)側(cè)面而進(jìn)行清洗,但清洗液被阻止浸入到外側(cè)面,最終不進(jìn)行清洗。因此,在外部底座Mb的外側(cè)面具有鎖定部I等,所述鎖定部I將定位用的孔及各部件的裝配鎖定,存在這樣的情況:當(dāng)清洗時(shí)清洗液浸入到這些部件,干燥需要花費(fèi)很多時(shí)間,若在未干燥的狀態(tài)下放置,則存在內(nèi)部會(huì)生銹等不良影響,但由于避免進(jìn)行清洗,因此能夠避免這些不良影響。
[0110]另外,在上述實(shí)施方式中,示出了以使基板盒C的外部底座Mb處于下方地支承于支承臺20的情況,但不必限定于此,也可以為如下的結(jié)構(gòu):使基板盒C的外部殼Ms處于下方地支承于支承臺20,在清洗基板盒C前,按外部底座Mb、內(nèi)部底座Nb、內(nèi)部殼Ns、外部殼Ms的順序?qū)⑦@些部件從支承臺20搬送到各自對應(yīng)的第一清洗槽40內(nèi)和第二清洗槽50內(nèi),在清洗基板盒C后,按外部殼Ms、內(nèi)部殼Ns、內(nèi)部底座Nb、外部底座Mb的順序?qū)⑦@些部件從對應(yīng)的第一清洗槽40內(nèi)和第二清洗槽50內(nèi)搬送到支承臺20而進(jìn)行裝配,也可以適當(dāng)?shù)刈兏?br>[0111]此外,在上述實(shí)施方式中,將本發(fā)明應(yīng)用于基板盒C具備由內(nèi)部底座Nb和內(nèi)部殼Ns構(gòu)成的內(nèi)部容器N、和由外部底座Mb和外部殼Ms構(gòu)成的外部容器M的雙層結(jié)構(gòu)的情況,但不一定限定于此,也可以應(yīng)用于如以往那樣地由基板和殼構(gòu)成的單層結(jié)構(gòu)的情況,也可以適當(dāng)?shù)刈兏?br>[0112]標(biāo)號說明
[0113]S基板盒清洗裝置
[0114]C基板盒
[0115]N內(nèi)部容器
[0116]Nb內(nèi)部底座
[0117]Ns內(nèi)部殼
[0118]M外部容器
[0119]Mb外部底座
[0120]Ms外部殼
[0121]D 基板
[0122]I鎖定部
[0123]2插入孔
[0124]3定位凹部
[0125]4卡合凹部
[0126]10室
[0127]11開口
[0128]12閘板
[0129]13載置臺
[0130]14開放部
[0131]15定位銷
[0132]16定位塊
[0133]20支承臺
[0134]21插銷驅(qū)動(dòng)部
[0135]23卡合凸部
[0136]24吸附盤
[0137]30移載機(jī)構(gòu)
[0138]31機(jī)臺
[0139]Rl前進(jìn)位置
[0140]R2后退位置
[0141]R3初始位置
[0142]32導(dǎo)軌
[0143]33進(jìn)退驅(qū)動(dòng)部
[0144]34上下驅(qū)動(dòng)部
[0145]40第一清洗槽
[0146]41開口
[0147]42槽主體
[0148]43蓋
[0149]44第一旋轉(zhuǎn)板
[0150]45第一旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)部
[0151]46外部底座支承桿
[0152]47外部殼支承桿
[0153]48支承體
[0154]49引導(dǎo)銷
[0155]50第二清洗槽
[0156]51開口
[0157]52槽主體
[0158]53蓋
[0159]54第二旋轉(zhuǎn)板
[0160]55第二旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)部
[0161]56內(nèi)部底座支承桿
[0162]57內(nèi)部殼支承桿
[0163]58支承體
[0164]59引導(dǎo)銷
[0165]60搬送機(jī)構(gòu)
[0166]61把持機(jī)構(gòu)
[0167]62升降機(jī)構(gòu)
[0168]63行進(jìn)移動(dòng)機(jī)構(gòu)
[0169]64底座板
[0170]65升降導(dǎo)軌
[0171]66支架
[0172]67水平導(dǎo)軌
[0173]70把持柄
[0174]71柄單體
[0175]72驅(qū)動(dòng)部
[0176]73、74、75、76 卡定部
[0177]80清洗單元
[0178]Q待機(jī)位置
[0179]81噴射嘴
[0180]82排氣扇
[0181]90保持部
[0182]91卡合凸部
[0183]92吸附盤
[0184]100控制部
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種基板盒清洗裝置,其在未設(shè)置基板的狀態(tài)下對基板盒進(jìn)行清洗,該基板盒具備底座和覆蓋該底座的殼,并且在內(nèi)部容納上述基板,其中, 該基板盒清洗裝置具備: 室,其形成潔凈的空間; 清洗槽,其被設(shè)置在該室內(nèi),在將上述基板盒的底座和殼各部件分離的狀態(tài)下容納并清洗這些部件;和 搬送機(jī)構(gòu),其相對于清洗槽搬送上述基板盒的各部件, 上述清洗槽具備: 槽主體,其具有向上方敞開的開口 ;和 能夠開閉的蓋,在搬送上述基板盒的各部件時(shí),該蓋使該槽主體的開口打開,在清洗該各部件時(shí),該蓋使該開口關(guān)閉, 該基板盒清洗裝置還具備: 旋轉(zhuǎn)板,其在所述清洗槽的槽主體的底部被設(shè)置成能夠以垂直方向的軸線為中心進(jìn)行旋轉(zhuǎn); 旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)部,其驅(qū)動(dòng)該旋轉(zhuǎn)板旋轉(zhuǎn); 多個(gè)底座支承桿,其豎立設(shè)置在上述旋轉(zhuǎn)板上,并在規(guī)定的高度位置處對上述底座的外緣的一部分進(jìn)行支承;和 多個(gè)殼支承桿,其豎立設(shè)置于上述旋轉(zhuǎn)板上,并在與上述底座支承桿不同的規(guī)定的高度位置處對上述殼的外緣的一部分進(jìn)行支承。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板盒清洗裝置,其中, 上述清洗槽的多個(gè)底座支承桿與多個(gè)殼支承桿彼此豎立設(shè)置在旋轉(zhuǎn)方向的不同位置。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板盒清洗裝置,其中, 該基板盒清洗裝置具備控制部,該控制部對上述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)部進(jìn)行控制,并將上述底座的支承和解除支承時(shí)的底座支承桿的停止位置與上述殼的支承和解除支承時(shí)的殼支承桿的停止位置設(shè)定成相位不同。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板盒清洗裝置,其中, 該基板盒清洗裝置具備保持部,該保持部被設(shè)置在上述清洗槽內(nèi),在無需對上述底座和殼中的任一方的部件的外側(cè)面進(jìn)行清洗時(shí),該保持部能夠以覆蓋該無需清洗的部件的外側(cè)面的方式保持該部件。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的基板盒清洗裝置,其中, 上述保持部被設(shè)置在上述清洗槽的蓋的背面,利用上述蓋的背面來覆蓋上述無需清洗的部件的外側(cè)面。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的基板盒清洗裝置,其中, 上述保持部具備吸附盤,該吸附盤吸附上述無需清洗的部件的外側(cè)面。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的基板盒清洗裝置,其中, 該基板盒清洗裝置具備控制部,該控制部判定是否無需對上述底座和殼中的至少任一方的部件的外側(cè)面進(jìn)行清洗,在判定為不需要時(shí),利用上述搬送機(jī)構(gòu)將無需清洗的部件搬送到上述保持部。
【專利摘要】能夠使基板盒的各部件在槽主體內(nèi)分離地進(jìn)行清洗,并能夠使清洗液均勻地遍布而可靠地進(jìn)行清洗。在未設(shè)置基板的狀態(tài)下清洗基板盒(C),所述基板盒(C)具備底座(Mb)和殼(Ms),并且在內(nèi)部容納基板,具備清洗槽(40),所述清洗槽(40)在將基板盒(C)的底座(Mb)和殼(Ms)各部件分離的狀態(tài)下容納并清洗這些部件,具備搬送機(jī)構(gòu),所述搬送機(jī)構(gòu)相對于清洗槽(40)搬送基板盒(C)的各部件,清洗槽(40)構(gòu)成為具備槽主體(42)和能開閉的蓋(43),清洗槽(40)具備:旋轉(zhuǎn)板(44),其在槽主體(42)的底部設(shè)置成能夠以垂直方向的軸線為中心進(jìn)行旋轉(zhuǎn);多個(gè)底座支承桿(46),其豎立設(shè)置在旋轉(zhuǎn)板(44)上,并在規(guī)定的高度位置處對底座(Mb)的外緣的一部分進(jìn)行支承;和多個(gè)殼支承桿(47),其豎立設(shè)置于旋轉(zhuǎn)板(44上,并在與底座支承桿(46)不同的規(guī)定的高度位置處對殼(Ms)的外緣的一部分進(jìn)行支承。
【IPC分類】H01L21-677, H01L21-304
【公開號】CN104620358
【申請?zhí)枴緾N201380047027
【發(fā)明人】坂下俊也
【申請人】修谷魯電子機(jī)器股份有限公司
【公開日】2015年5月13日
【申請日】2013年9月13日
【公告號】US20150217339, WO2014046044A1
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