對(duì)流量調(diào)整器30進(jìn)行流量控制。
[0047]在沖洗液供給部22中，將沖洗液供給源31經(jīng)由配管及流量調(diào)整器32連接于沖洗液供給噴嘴27。利用控制部14對(duì)流量調(diào)整器32進(jìn)行流量控制。
[0048]干燥液供給部23具有用于供給由硅系有機(jī)化合物構(gòu)成的第I藥液(在此為TMSDMA (二甲基三甲基硅胺)的第I藥液供給部33和用于供給由其他有機(jī)化合物(在此為醇系有機(jī)化合物)構(gòu)成的第2藥液(在此為IPA(異丙醇))的第2藥液供給部34。
[0049]在第I藥液供給部33中，將用于供給第I藥液的第I藥液供給源35經(jīng)由配管及流量調(diào)整器36連接于干燥液供給噴嘴28。另外，在第2藥液供給部34中，將用于供給第2藥液的第2藥液供給源37經(jīng)由配管及流量調(diào)整器38連接于干燥液供給噴嘴28。利用控制部14對(duì)流量調(diào)整器36、38進(jìn)行流量控制。
[0050]干燥液供給部23將自第I藥液供給部33供給的第I藥液和自第2藥液供給部34供給的第2藥液在I個(gè)干燥液供給噴嘴28的內(nèi)部混合，并將混合而成的干燥液供給至基板
3。第I藥液和第2藥液的混合部既可以在干燥液供給噴嘴28的內(nèi)部，也可以在與干燥液供給噴嘴28相連接的配管的內(nèi)部。此外，既可以是，預(yù)先將在未圖示的罐內(nèi)以規(guī)定的比率混合第I藥液和第2藥液而成的干燥液供給至基板3，也可以是，將第I藥液和第2藥液分別自單獨(dú)的噴嘴供給至基板3并使第I藥液和第2藥液在基板3的表面(上表面)上混合。另外，另外，作為干燥液，并不限于使用將第I藥液和第2藥液在本基板液處理裝置I的內(nèi)部混合而成的干燥液的情況，也可以使用將第I藥液和第2藥液在本基板液處理裝置I的外部混合而成的干燥液。
[0051]在液回收部13中，在轉(zhuǎn)臺(tái)17的周圍配置有圓環(huán)狀的回收杯39。在回收杯39的上端部形成有比轉(zhuǎn)臺(tái)17 (基板3)大一圈的尺寸的開(kāi)口。另外，在回收杯39的下端部連接有排放管線40。
[0052]該液回收部13利用回收杯39來(lái)回收被供給到基板3的表面的處理液、沖洗液、干燥液并將處理液、沖洗液、干燥液自排放管線40向外部排出。此外，排放管線40不僅回收液體，還回收處理室15的內(nèi)部的氣體(氣氛氣體)。由此，使自設(shè)于處理室15的上部的FFU(Fan Filter Unit:風(fēng)機(jī)濾器單元)41供給的清潔空氣在處理室15的內(nèi)部形成下降流。FFU41能夠?qū)⑶鍧嵖諝馇袚Q為CDA (Clean Dry Air:清潔干燥空氣)并供給CDA，在供給CDA時(shí)，使CDA在處理室15的內(nèi)部形成下降流。
[0053]基板液處理裝置I如以上說(shuō)明那樣構(gòu)成，并根據(jù)在設(shè)置于控制部14(計(jì)算機(jī))的存儲(chǔ)介質(zhì)42中存儲(chǔ)的各種程序且利用控制部14來(lái)對(duì)基板液處理裝置I進(jìn)行控制，從而對(duì)基板3進(jìn)行處理。此處，在存儲(chǔ)介質(zhì)42中存儲(chǔ)有各種設(shè)定數(shù)據(jù)、程序，存儲(chǔ)介質(zhì)42能夠由ROM、RAM等存儲(chǔ)器、硬盤、CD — ROM、DVD 一 R0M、軟盤等盤狀存儲(chǔ)介質(zhì)等公知的存儲(chǔ)介質(zhì)構(gòu)成。
[0054]并且，基板液處理裝置I用于根據(jù)存儲(chǔ)在存儲(chǔ)介質(zhì)42中的基板液處理程序如以下說(shuō)明那樣對(duì)基板3進(jìn)行處理(參照?qǐng)D3。)。
[0055]首先，在基板液處理裝置I中，利用基板液處理單元10來(lái)接收被基板輸送裝置9輸送過(guò)來(lái)的基板3 (基板接收工序)。
[0056]在該基板接收工序中，控制部14利用基板升降機(jī)構(gòu)20來(lái)使轉(zhuǎn)臺(tái)17上升到規(guī)定位置。然后，利用基板保持體18將被自基板輸送裝置9輸送到處理室15的內(nèi)部的I張基板3以水平地保持的狀態(tài)接收。之后，利用基板升降機(jī)構(gòu)20使轉(zhuǎn)臺(tái)17下降到規(guī)定位置。此外，在基板接收工序中，預(yù)先使臂25 (處理液供給噴嘴26、沖洗液供給噴嘴27、干燥液供給噴嘴28)退避到比轉(zhuǎn)臺(tái)17的外周靠外側(cè)的待機(jī)位置。
[0057]接下來(lái)，基板液處理裝置I向基板3的表面供給處理液而對(duì)基板3進(jìn)行液處理(液處理工序)。
[0058]在該液處理工序中，如圖4所示，控制部14利用噴嘴移動(dòng)機(jī)構(gòu)43使臂25移動(dòng)而將處理液供給噴嘴26配置于基板3的中心部上方的噴出位置。另外，通過(guò)利用基板旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)19使轉(zhuǎn)臺(tái)17以規(guī)定的轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)，從而使基板3旋轉(zhuǎn)。之后，自處理液供給噴嘴26朝向基板3的表面(上表面)噴出被流量調(diào)整器30調(diào)整為規(guī)定流量后的處理液。由此，利用處理液對(duì)基板3的表面進(jìn)行液處理。被供給到基板3的處理液在旋轉(zhuǎn)的基板3的離心力的作用下被向基板3的外周外側(cè)甩出，利用回收杯39回收該處理液并將其自排放管線40排出到外部。在以規(guī)定時(shí)間供給處理液之后，利用流量調(diào)整器30使處理液停止噴出。此時(shí)，作為自FFU41供給的氣體，根據(jù)處理液的種類而選擇清潔空氣或CDA。
[0059]接下來(lái)，基板液處理裝置I對(duì)基板3的表面供給沖洗液而對(duì)基板3進(jìn)行沖洗處理(沖洗處理工序)。
[0060]在該沖洗處理工序中，如圖5所示，控制部14在通過(guò)利用基板旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)19使轉(zhuǎn)臺(tái)17以規(guī)定的轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)而使基板3繼續(xù)旋轉(zhuǎn)的狀態(tài)下，利用噴嘴移動(dòng)機(jī)構(gòu)43使臂25移動(dòng)而將沖洗液供給噴嘴27配置于基板3的中心部上方的噴出位置。之后，自沖洗液供給噴嘴27朝向基板3的表面噴出被流量調(diào)整器32調(diào)整為規(guī)定流量后的沖洗液。由此，利用沖洗液對(duì)基板3的表面進(jìn)行沖洗處理。供給到基板3的沖洗液在旋轉(zhuǎn)的基板3的離心力的作用下被向基板3的外周外側(cè)甩出，利用回收杯39回收該沖洗液并將其自排放管線40排出到外部。在以規(guī)定時(shí)間供給沖洗液之后，利用流量調(diào)整器32使沖洗液停止噴出。
[0061]接下來(lái)，基板液處理裝置I進(jìn)行使基板3的表面干燥的干燥處理(干燥處理工序)。該干燥處理工序包括對(duì)基板3供給干燥液的干燥液供給工序和將供給到基板3的干燥液自基板3去除的干燥液去除工序。
[0062]在干燥液供給工序中，如圖6所示，在通過(guò)利用基板旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)19使轉(zhuǎn)臺(tái)17以規(guī)定的轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)而使基板3繼續(xù)旋轉(zhuǎn)的狀態(tài)下，利用噴嘴移動(dòng)機(jī)構(gòu)43使臂25移動(dòng)而將干燥液供給噴嘴28配置于基板3的中心部上方的噴出位置。之后，同時(shí)向干燥液供給噴嘴28供給被流量調(diào)整器36、38調(diào)整為規(guī)定流量后的第I藥液和第2藥液，使第I藥液和第2藥液在干燥液供給噴嘴28的內(nèi)部混合而生成干燥液，并使該干燥液自干燥液供給噴嘴28朝向基板3的表面噴出。供給到基板3的干燥液在旋轉(zhuǎn)的基板3的離心力的作用下被向基板3的外周外側(cè)甩出，利用回收杯39回收該干燥液并將其自排放管線40排出到外部。在以規(guī)定時(shí)間供給干燥液之后，利用流量調(diào)整器36、38使干燥液(第I藥液和第2藥液)停止噴出。
[0063]在干燥液去除工序中，控制部14通過(guò)利用基板旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)19使轉(zhuǎn)臺(tái)17以規(guī)定的轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)而使基板3繼續(xù)旋轉(zhuǎn)。由此，在旋轉(zhuǎn)的基板3的離心力的作用下將殘留于基板3的表面的干燥液向基板3的外側(cè)甩出，從而將干燥液自基板3的表面去除而使基板3的表面干燥。此外，在干燥液去除工序中，使臂25 (處理液供給噴嘴26、沖洗液供給噴嘴27、干燥液供給噴嘴28)移動(dòng)并使臂25退避到比轉(zhuǎn)臺(tái)17的外周靠外側(cè)的待機(jī)位置。在干燥液供給工序和干燥液去除工序中，作為自FFU41供給的氣體，優(yōu)選選擇CDA。另外，在干燥液去除工序中，也可以向基板3的表面供給氮?dú)獾确腔钚詺怏w，以促進(jìn)去除干燥液。
[0064]最后，基板液處理裝置I將基板3自基板液處理單元10交接到基板輸送裝置9 (基板交接工序)。
[0065]在該基板交接工序中，控制部14利用基板升降機(jī)構(gòu)20使轉(zhuǎn)臺(tái)17上升到規(guī)定位置。然后，將由轉(zhuǎn)臺(tái)17保持著的基板3交接到基板輸送裝置9。之后，利用基板升降機(jī)構(gòu)20使轉(zhuǎn)臺(tái)17下降到規(guī)定位置。
[0066]如以上說(shuō)明那樣，在所述基板液處理裝置I (利用基板液處理裝置I執(zhí)行的基板液處理方法)中，利用沖洗液對(duì)利用處理液進(jìn)行液處理后的基板3進(jìn)行沖洗處理，之后，在將基板3上的沖洗液置換為干燥液之后，將干燥液自基板3去除，由此對(duì)基板3進(jìn)行干燥處理。
[0067]并且，在所述基板液處理裝置I中，在干燥處理工序的干燥液供給工序中，作為第I藥液而使用含有硅系有機(jī)化合物的干燥液。在使用以往的由醇系有機(jī)化合物構(gòu)成的干燥液的情況下，不能將作為沖洗液的純水充分地置換為干燥液，從而有時(shí)在基板3的表面殘留有作為沖洗液的純水。其結(jié)果，在干燥處理工序中，在精細(xì)化的圖案中，在殘留的沖洗液的表面張力的作用下，有可能產(chǎn)生倒塌。在本實(shí)施方式中，通過(guò)在供給干燥液的工序中同時(shí)供給醇系有機(jī)化合物和至少一部分的硅系有機(jī)化合物，能夠易于將作為沖洗液的純水置換，從而能夠使沒(méi)有混入到醇系有機(jī)化合物的純水分解。其結(jié)果，能夠在不引起精細(xì)化后的圖案的倒塌的情況下使液處理后的基板3良好地干燥。也就是說(shuō)，通過(guò)將與作為沖洗液的純水混合的混合性能不足、但具有使純水分解的能力的第I藥液即硅系有機(jī)化合物和具有與作為沖洗液的純水混合的混合性能的第2藥液混合而用作干燥液，能夠防止圖案的倒塌。作為該硅系有機(jī)化合物，其并不限于所述TMSDMA(二甲基三甲基硅胺)，能夠使用TMSDEA (三甲基硅烷基二乙胺)、HMDS (六甲基二硅氮烷)、硅烷偶聯(lián)劑等。此外，作為第2藥液，其并不限于IPA(異丙醇)，能夠使用其他醇、HFE (氫氟醚)等醚等有機(jī)化合物。作為第I藥液和第2藥液，更期望選擇不具有反應(yīng)性的藥液，以易于維持各個(gè)藥液的性質(zhì)。
[0068]另外，在所述基板液處理裝置I中，在干燥處理工序的干燥液供給工序中，