。入射照射角的范圍可以 如下所示：約為0-80度、約為0-75度、約為0-70度、約為0-65度、約為0-60度、約為0-55 度、約為0-50度、約為0-45度、約為0-40度、約為0-35度、約為0-30度、約為0-25度、約 為0-20度、約為0-15度、約為5-80度、約為5-80度、約為5-70度、約為5-65度、約為5-60 度、約為5-55度、約為5-50度、約為5-45度、約為5-40度、約為5-35度、約為5-30度、約 為5-25度、約為5-20度、約為5-15度，以及其間的所有范圍和子范圍。在約為0-80度、約 為0-60度、約為0-45度或者約為0-30度的入射照射角或者沿著上述入射照射角，制品可 展現(xiàn)出本文所述的最大色移。
[0048] 參見圖5,根據(jù)一個或多個實(shí)施方式的制品100可包括基材110以及布置在基材上 的光學(xué)膜120。基材110包括相對主表面112、114以及相對次表面116、118。如圖5所示， 光學(xué)膜120布置在第一相對主表面112上；但是，光學(xué)膜可以布置在第二相對主表面114上 和/或一個或兩個相對主表面上，作為布置在第一相對主表面112上的補(bǔ)充或替代。制品 100可包括涂覆表面101。
[0049] 光學(xué)膜120包括至少一種材料的至少一層。術(shù)語"層"可包括單層或者可包括一 層或多層子層。此類子層可以相互直接接觸。子層可以由相同材料形成，或者可以由兩種 或更多種不同材料形成。在一個或多個替代實(shí)施方式中，此類子層可具有布置在其間的不 同材料的插入層。在一個或多個實(shí)施方式中，層可包括一層或多層毗鄰且不間斷層和/或 一層或多層不連續(xù)且間斷層（即，由相互相鄰的不同材料形成的層）。層或子層可由本領(lǐng)域 的任意已知方法形成，包括離散沉積或連續(xù)沉積工藝。在一個或多個實(shí)施方式中，可僅使用 連續(xù)沉積工藝形成層，或者可僅使用離散沉積工藝形成層。
[0050] 本文所用術(shù)語"布置"包括采用本領(lǐng)域任意已知的方法在表面上涂覆、沉積和/或 形成材料。布置的材料可構(gòu)成本文所定義的層。表述"布置在...上"包括在表面上形成 材料從而使得材料與表面直接接觸的情況，還包括在表面上形成材料，其中在布置的材料 和表面之間具有一種或多種插入材料的情況。插入材料可構(gòu)成本文所定義的層。
[0051] 在一個或多個實(shí)施方式中，制品100展現(xiàn)出大于或等于約8GPa、大于或等于約 lOGPa、大于或等于約14GPa、大于或等于約18GPa的平均硬度，這是在涂覆表面101上， 通過用波克威馳壓痕儀對涂覆表面進(jìn)行壓痕，形成距離涂覆表面的表面至少約l〇〇nm壓 痕深度的壓痕所測得的。在一些實(shí)施方式中，制品的平均硬度范圍如下：約5GPa-30GPa、 約 6GPa-30GPa、約 7GPa-30GPa、約 8GPa-30GPa、約 9GPa-30GPa、約 10GPa-30GPa、 約 12GPa-30GPa、約 5GPa-28GPa、約 5GPa-26GPa、約 5GPa-24GPa、約 5GPa-22GPa、約 5GPa-20GPa、約 12GPa-25GPa、約 15GPa-25GPa、約 16GPa-24GPa、約 18GPa-22GPa，以及其間 的所有范圍和子范圍。
[0052] 在一個或多個實(shí)施方式中，制品100還展現(xiàn)出耐磨損性。在一些實(shí)施方式中，通 過本領(lǐng)域已知方法測量耐磨損性，例如使用耐摩擦牢度測定器（Crockmeter)、泰伯磨損儀 (Taberabraser)以及其他類似標(biāo)準(zhǔn)儀器所使用的那些。例如，使用耐摩擦牢度測定器來確 定經(jīng)受該摩擦的表面的克羅克（Crock)抗性。耐摩擦牢度測定器使得表面與安裝在受力臂 端部的摩擦尖端或"指"直接接觸。耐摩擦牢度測定器所裝配的標(biāo)準(zhǔn)指是15毫米（mm)直 徑的固體丙烯酸類棒。將清潔的標(biāo)準(zhǔn)摩擦布料小片安裝在該丙烯酸類指上。然后以900g 的壓力將指置于樣品上，臂在樣品上重復(fù)地機(jī)械來回移動，以期觀察耐久性/克羅克抗性 的變化。用于本文所述測試的耐摩擦牢度測定器是提供有60轉(zhuǎn)每分鐘的均勻敲擊頻率的 電動模型。在題為"用于測試由商用復(fù)制產(chǎn)品得到的圖像的耐磨性和抗污性的標(biāo)準(zhǔn)測定方 法（StandardTestMethodforDeterminationofAbrasionandSmudgeResistanceof ImagesProducedfromBusinessCopyProducts)" 的ASTM測試步驟F1319-94 中描述了 耐摩擦牢度測定器測試，其全文通過引用結(jié)合入本文。本文所述的涂覆制品的克羅克抗性 或耐用性是通過按照ASTM測試過程F1319-94所定義的特定次數(shù)的擦拭之后進(jìn)行光學(xué)（例 如反射率、霧度或透射率）測量來確定的。一次"擦拭"定義為用摩擦尖端或者指進(jìn)行兩次 沖擊或者一個循環(huán)。
[0053] 根據(jù)一個或多個實(shí)施方式，制品100在光學(xué)狀態(tài)展現(xiàn)出大于或等于約80%的平均 透射率。在一個或多個實(shí)施方式中，制品100的總反射率（包括鏡面反射和漫反射）小于 或等于約20%。如本文所用術(shù)語"透射率"定義為給定波長范圍內(nèi)，透射過材料（例如，層 疊、無機(jī)氧化物基材或者光學(xué)膜結(jié)構(gòu)或其部分）的入射光功率的百分比。術(shù)語"反射率"類 似地定義為給定波長范圍內(nèi)，從材料（例如，層疊、無機(jī)氧化物基材或者光學(xué)膜結(jié)構(gòu)或其部 分）反射的入射光功率的百分比。采用具體譜線寬度來測量透射率和反射率。在一個或多 個實(shí)施方式中，透射率和反射率表征的光譜分辨率小于5nm或0. 02eV。
[0054]
【具體實(shí)施方式】的制品100在光學(xué)狀態(tài)可展現(xiàn)出如下平均透射率：大于或等于約 80%、大于或等于約82%、大于或等于約85%、大于或等于約90%、大于或等于約90. 5%、 大于或等于約91%、大于或等于約91. 5%、大于或等于約92%、大于或等于約92. 5%、大 于或等于約93%、大于或等于約93. 5%、大于或等于約94%、大于或等于約94. 5%或者大 于或等于約95%。在一些例子中，制品的總反射率可以小于或等于約20%、小于或等于約 15%、小于或等于約10%、小于或等于約9%、小于或等于約8%、小于或等于約7%或者小 于或等于約6%。在一些【具體實(shí)施方式】中，制品的總反射率可以小于或等于約6.9 %、小于 或等于約6.8 %、小于或等于約6.7 %、小于或等于約6.6 %、小于或等于約6.5 %、小于或等 于約6. 4%、小于或等于約6. 3%、小于或等于約6. 2%、小于或等于約6. 1%、小于或等于 約6.Ο%、小于或等于約5. 9%、小于或等于約5. 8%、小于或等于約5. 7%、小于或等于約 5. 6%或者小于或等于約5. 5%。根據(jù)一個或多個實(shí)施方式，制品100的總反射率可以與基 材110的總反射率相同或者小于基材110的總反射率。
[0055] 在一個或多個實(shí)施方式中，制品100在光波長狀態(tài)展現(xiàn)出較平坦的透射率譜圖、 反射率譜圖或者透射率譜圖與反射率譜圖。在一些實(shí)施方式中，較平坦的透射率和/或反 射率譜圖包括沿著整個光波長狀態(tài)或者光波長狀態(tài)內(nèi)的波長范圍區(qū)段小于或等于5個百 分點(diǎn)的平均振幅幅度。波長范圍區(qū)段可以是約50nm、約100nm、約200nm或者約300nm。在 一些實(shí)施方式中，平均振幅幅度可以如下：小于或等于約4. 5個百分點(diǎn)、小于或等于約4個 百分點(diǎn)、小于或等于約3. 5個百分點(diǎn)、小于或等于約3個百分點(diǎn)、小于或等于約2. 5個百分 點(diǎn)、小于或等于約2個百分點(diǎn)、小于或等于約1. 75個百分點(diǎn)、小于或等于約1. 5個百分點(diǎn)、 小于或等于約1. 25個百分點(diǎn)、小于或等于約1個百分點(diǎn)、小于或等于約0. 75個百分點(diǎn)、小 于或等于約0. 5個百分點(diǎn)、小于或等于約0. 25個百分點(diǎn)或者約0個百分點(diǎn)，以及其間的所 有范圍和子范圍。在一個或多個【具體實(shí)施方式】中，制品在光波長狀態(tài)的約100-200nm的選 定波長范圍區(qū)段展現(xiàn)出如下透射率，其中，譜圖的振幅的最大峰約為80%、約為82%、約為 84%、約為86%、約為87%、約為88%、約為89%、約為90%、約為91 %、約為92%、約為 93%、約為95%，或者約為其間的所有范圍和子范圍以及其間的所有范圍和子范圍。
[0056] 在一些實(shí)施方式中，較為平坦的平均透射率和/或平均反射率包括：沿著光波長 狀態(tài)中的具體波長范圍區(qū)段的最大振幅幅度，其表述為平均透射率或平均反射率的百分 比。還會沿著光波長狀態(tài)的相同特定波長范圍區(qū)段測量平均透射率或平均反射率。波長 范圍區(qū)段可以約為50nm、約為100nm或者約為200nm。在一個或多個實(shí)施方式中，制品100 展現(xiàn)出如下平均透射率和/或平均反射率，其基于百分比的平均振幅幅度小于或等于約 10%、小于或等于約5%、小于或等于約4. 5%、小于或等于約4%、小于或等于約3. 5%、小 于或等于約3%、小于或等于約2. 5%、小于或等于約2%、小于或等于約1. 75%、小于或等 于約1. 5%、小于或等于約1. 25%、小于或等于約1 %、小于或等于約0. 75%、小于或等于約 0. 5%、小于或等于約0. 25%或者小于或等于約0. 1%，以及其間的所有范圍和子范圍。沿 著光波長狀態(tài)的約為50nm、約為100nm、約為200nm或者約為300nm的波長范圍區(qū)段，制品 可以展現(xiàn)出該基于百分比的平均振幅幅度。例如，沿著約為500-600nm的波長范圍（其是 光波長狀態(tài)內(nèi)約為lOOnm的波長范圍區(qū)段），制品可展現(xiàn)出約為85%的平均透射率。沿著 相同波長范圍（500_600nm)，這表示沿著500-600nm的波長范圍，制品還可展現(xiàn)出約為3% 的基于百分比的振幅幅度，所述振幅幅度為2. 55個百分點(diǎn)。
[0057] 基材
[0058] 基材110可包括無定形基材、晶體基材或其組合。基材110可以由人造材料和/或 天然存在的材料形成。在一些【具體實(shí)施方式】中，基材110可以具體地排除塑料和/或金屬基 材。在一個或多個實(shí)施方式中，基材展現(xiàn)出約為1.45-1. 55的折射率。在【具體實(shí)施方式】中， 利用環(huán)上球測試，使用至少5個、至少10個、至少15個或者至少20個樣品進(jìn)行測量，基材 110在一個或多個相對主表面的表面上可展現(xiàn)出大于或等于0. 5%、大于或等于0. 6%、大 于或等于0.7%、大于或等于0.8%、大于或等于0.9%、大于或等于1%、大于或等于1. 1%、 大于或等于1. 2%、大于或等于1. 3%、大于或等于1. 4%、大于或等于1. 5%或者甚至大于 或等于2 %的平均斷裂應(yīng)變。在【具體實(shí)施方式】中，基材110在其一個或多個相對主表面的表 面上可展現(xiàn)出約為1. 2%、約為1. 4%、約為1. 6%、約為1. 8%、約為2. 2%、約為2. 4%、約 為2. 6%、約為2. 8%或者約為3%的平均斷裂應(yīng)變。
[0059] 合適的基材110可展現(xiàn)出約為30_120GPa的彈性模量（或者楊氏模量）。在 一些情況下，基材的彈性模量可以約為30-110GPa、約為30-100GPa、約為30-90GPa、約 為 30-80GPa、約為 30-70GPa、約為 40-120GPa、約為 50-120GPa、約為 60-120GPa、約為 70-120GPa，以及其間的所有范圍和子范圍。
[0060] 在一個或多個實(shí)施方式中，無定形基材可包括玻璃，其可以經(jīng)過強(qiáng)化或者未經(jīng)過 強(qiáng)化。合適的玻璃的例子包括鈉鈣玻璃、堿性鋁硅酸鹽玻璃、含堿性硼硅酸鹽玻璃以及堿性 鋁硼硅酸鹽玻璃。在一些變化形式中，玻璃可以不含氧化鋰。在一個或多個替代實(shí)施方式 中，基材110可以包括晶體基材，例如玻璃陶瓷基材（其可以經(jīng)過強(qiáng)化或者未經(jīng)過強(qiáng)化）或 者可也包括單晶結(jié)構(gòu)，例如藍(lán)寶石。在一個或多個【具體實(shí)施方式】中，基材110包括無定形基 底（例如玻璃）和晶體包覆（例如，藍(lán)寶石層、多晶氧化鋁層和/或尖晶石（MgAl204)層）。
[0061] 基材110可以是基本平坦或者片狀的，但是其他實(shí)施方式可采用彎曲或者任意其 他形狀或造型的基材?；?10可以是基本上光學(xué)透澈、透明和沒有光散射的。在此類實(shí) 施方式中，基材在光波長狀態(tài)可展現(xiàn)大于或等于約85 %、大于或等于約86 %、大于或等于 87%、大于或等于88%、大于或等于89%、大于或等于90%、大于或等于91%或者大于或等 于92的平均透射率。在一個或多個替代實(shí)施方式中，基材110可以是不透明的，或者可以 在光波長狀態(tài)展現(xiàn)出小于約10%、小于約9%、小于約8%、小于約7%、小于約6%、小于約 5%、小于約4%、小于約3%、小于約2%、小于約1 %或者小于約0%的平均透射率?；?110可任選地展現(xiàn)出顏色，例如白色、黑色、紅色、藍(lán)色、綠色、黃色、橙色等。
[0062] 作為補(bǔ)充或替代，出于美觀和/或功能原因，基材110的物理厚度可沿其一個或多 個尺寸發(fā)生變化。例如，基材110的邊緣可以相比于基材110的更為中心的區(qū)域更厚。根 據(jù)制品100的應(yīng)用或用途，基材110的長度、寬度和物理厚度尺寸也可以發(fā)生變化。
[0063]可采用各種不同工藝來提供基材110。例如，當(dāng)基材110包括無定形基材例如玻璃 時，各種成形方法可以包括浮法玻璃工藝以及下拉工藝?yán)缛酆侠坪酮M縫拉制。
[0064]一旦形成，可以對基材110進(jìn)行強(qiáng)化以形成經(jīng)強(qiáng)化的基材。本文所用術(shù)語"強(qiáng)化的 基材"可以表示通過例如用較大離子來離子交換基材表面中的較小離子進(jìn)行化學(xué)強(qiáng)化的基 材。但是，也可采用本領(lǐng)域已知的其他強(qiáng)化方法，例如采用熱回火或者部分基材之間的熱膨 脹系數(shù)的不匹配來產(chǎn)生壓縮應(yīng)力和中心拉伸區(qū)域，以形成經(jīng)強(qiáng)化的基材。
[0065] 當(dāng)基材通過離子交換工藝進(jìn)行化學(xué)強(qiáng)化時，用具有相同價態(tài)或氧化態(tài)的較大的離 子來代替或交換基材的表面層內(nèi)的離子。通常通過將基材浸泡在熔鹽浴中進(jìn)行離子交換工 藝，所述熔鹽浴包含要與基材中的較小離子發(fā)生交換的較大離子。本領(lǐng)域技術(shù)人員能夠理 解，離子交換工藝的參數(shù)包括但不限于：浴組成和溫度、浸沒時間、基材在一種或多種鹽浴 中的浸沒次數(shù)、多種鹽浴的使用、其它步驟例如退火以及洗滌等，其通常是由以下的因素決 定的：基材的組成，所需的壓縮應(yīng)力（CS)、通過強(qiáng)化操作得到的基材的壓縮應(yīng)力層深度（或 層深度）。例如，含堿金屬的玻璃基材的離子交換可以通過以下方式實(shí)現(xiàn)：浸泡在至少一種 包含鹽的熔鹽浴中，所述鹽包括例如但不限于較大堿金屬離子的硝酸鹽、硫酸鹽和氯化物。 熔鹽浴的溫度通常約為380°C至高至約450°C，同時浸泡時間約為15分鐘至高至約40小 時。但是，也可以采用與上述不同的溫度和浸泡時間。
[0066] 另外，在以下文獻(xiàn)中描述了在多種離子交換浴中浸沒玻璃基材（在浸泡之間進(jìn)行 洗滌和/或退火步驟）的離子交換工藝的非限制性例子：DouglasC.Allan等人于2009年7 月 10 日提交的題為"GlasswithCompressiveSurfaceforConsumerApplications(用 于消費(fèi)者應(yīng)用的具有壓縮表面的玻璃）"的美國專利申請第12/500, 650號，其要求2008年 7月11日提交的美國臨時專利申請第61/079, 995號的優(yōu)先權(quán)，其中，通過在不同濃度的 鹽浴中多次浸泡，進(jìn)行連續(xù)的離子交換處理，從而對玻璃基材進(jìn)行強(qiáng)化；以及2012年11月 20 日公告的ChristopherM.Lee等人的題為"DualStageIonExchangeforChemical StrengtheningofGlass