氧原子的碳數(shù)2~20的氟代亞烷基，
[0307] d為1~5的整數(shù)，
[0308] p為1~6的整數(shù)，
[0309] q為1~200的整數(shù)，在q為2以上時，（CpF2pO)q可以由p不同的2種以上的CpF2pO 構(gòu)成。
[0310] ((CpF2pO)q)
[0311] p從可有效利用化合物（1)的制造過程中作為副產(chǎn)物產(chǎn)生的化合物的方面考慮， 優(yōu)選與式（1)中的m相同。
[0312] 在p為2以上的情況下，CpF2p可以是直鏈狀，也可以是支鏈狀。從充分對表面層賦 予指紋污染去除性、潤滑性的方面考慮，優(yōu)選直鏈狀。
[0313] q從可有效利用化合物（1)的制造過程中作為副產(chǎn)物產(chǎn)生的化合物的方面考慮， 優(yōu)選與式（1)中的n相同。
[0314] 在q為2以上時，（CpF2pO)q可以由p不同的2種以上CpF2pO構(gòu)成。
[0315] 在（CpF2pO)q中存在p不同的2種以上的CpF2p0的情況下，對各CpF2pO的結(jié)合順序 沒有限定。
[0316] (CpF2pO)q從可有效利用化合物（1)的制造過程中作為副產(chǎn)物產(chǎn)生的化合物的方面 考慮，優(yōu)選與式（1)中的（CniF2niO)n相同。例如，在化合物（1)為具有（(CF2O)nl(CF2CF2O)nJ 的化合物的情況下，化合物（2)也特別優(yōu)選具有{(CF20)nl (CF2CF2O)nJ的化合物。
[0317] 化合物⑵在為具有（(CF2O)nl(CF2CF2O)nJ的化合物的情況下，從化合物⑵的制 造難易度的方面考慮，且從可有效利用化合物（1)的制造過程中作為副產(chǎn)物產(chǎn)生的化合物 的方面考慮，化合物（2)優(yōu)選上述化合物（10)的衍生物。在化合物（2)為化合物（10)的 衍生物的情況下，-CH2- (CpF2pO)「為-CH2CF2-O{(CF2O)nl (CF2CF2O) n2}
[0318] (Rf2 以及Rf3基）
[0319] Rf2以及Rf3的例示以及優(yōu)選例與上述Rfl相同。
[0320] Rf2以及Rf3從可有效利用在化合物（1)的制造過程中作為副產(chǎn)物產(chǎn)生的化合物的 方面考慮，優(yōu)選上述的式（3-1)表示的基團、式（3-2)表示的基團或式（3-3)表示的基團。 另外，Rf2中，RF為與D2鍵合的基團，Rf3中，RF為與D3鍵合的基團。
[0321] (化合物⑵的優(yōu)選形態(tài)）
[0322] 作為化合物（2)，從可有效利用化合物（1)的優(yōu)選形態(tài)的制造過程中作為副產(chǎn)物 產(chǎn)生的化合物的方面考慮，優(yōu)選化合物（21)、化合物（22)、化合物（23)。另外，式中的2個 RfS團的種類可以相同或不同。
[0323] D2-Rf-O-CHFCF2-O-CH2CF2-O{(CF2O)nl (CF2CF2O) n2} -CF2CH2-O-CF2CHF-O-Rf-D3 ??? (21 )
[0324] D2-Rf-CHFCF2-O-CH2CF2-O{(CF2O)nl (CF2CF2O) n2} -CF2CH2-O-CF2CHF-Rf-D3 ... (22)
[0325] D2-Rf-CzH2z-O-CH2CF2-O{(CF2O)nl (CF2CF2O) n2} -CF2CH2-O-CzH2z-Rf-D3 ??? (23)
[0326] (化合物（6))
[0327] 化合物（6)為下式（6)表示的含氟醚化合物。
[0328] Rfi-O- (CsF2sO) -Rf2 ? ? ? (6)
[0329]其中，
[0330] Rn以及RF2分別獨立地為碳數(shù)1~6的全氟烷基，
[0331] s為1~6的整數(shù)，
[0332]t為1~200的整數(shù)，在t為2以上時，（CsF2sO)t可以由s不同的2種以上的CsF2sO 構(gòu)成。
[0333] 化合物（6)可通過用氟氣對化合物（2)進行氟化而得。此外，可使用市售品。作為 市售品，可例舉FOMBLINM、F0MBLINY、F0MBLINZ(以上為蘇威蘇萊克斯公司（V U夕シ只社）制）、Krytox(杜邦公司（I示 >社）制）、Demnum(大金工業(yè)株式會社（久' 彳年 >工業(yè)社）制）等。從潤滑性優(yōu)異的方面考慮，（CsF2sO),優(yōu)選含有（CF2O)和（CF2CF2O) 的FOMBLINM以及FOMBLINZ。
[0334] 本發(fā)明的含氟醚組合物可以含有化合物（1)以及其他含氟醚化合物以外的雜質(zhì)。 化合物（1)以及其他含氟醚化合物以外的雜質(zhì)是指在化合物（1)以及其他含氟醚化合物的 制造中不可避免的化合物，是不含有（CniF2niO)n等含氟醚鏈的化合物。具體而言，是化合物 (1)以及其他含氟醚化合物的制造過程中生成的副產(chǎn)物、化合物（1)以及其他含氟醚化合 物的制造過程中混入的成分。
[0335] 本組合物中的化合物（1)的含量優(yōu)選70質(zhì)量％以上，特別優(yōu)選80質(zhì)量％以上。本 組合物中的化合物（1)的含量是指，相對于本組合物中的化合物（1)和其他含氟醚化合物 和上述副產(chǎn)物等雜質(zhì)的總計的化合物（1)的含量。
[0336] S卩，相對于本組合物中的化合物（1)和其他含氟醚化合物和上述雜質(zhì)的總計的其 他含氟醚化合物和上述雜質(zhì)的總含量優(yōu)選30質(zhì)量％以下，特別優(yōu)選20質(zhì)量％以下。如果化 合物（1)的含量在上述范圍內(nèi)，則表面層的初期拒水拒油性、耐摩擦性、指紋污染去除性、 潤滑性、均勻性優(yōu)異。
[0337] 其中，在其他含氟醚化合物為化合物（2)和化合物（6)的情況下，由于它們是如上 所述的使化合物（1)的特性下降可能性低的化合物，所以本組合物中的化合物（1)的優(yōu)選 含量可以比上述含量的下限更低。
[0338] 本組合物在含有化合物（2)和化合物（6)的至少一方的情況下，本組合物中的化 合物（1)、化合物（2)以及化合物（6)的總含量優(yōu)選80質(zhì)量％以上，特別優(yōu)選85質(zhì)量％以 上。本組合物中的化合物（1)、化合物（2)以及化合物（6)的總含量是指，相對于本組合物 中的化合物（1)和其他含氟醚化合物和上述副產(chǎn)物等雜質(zhì)的總計的化合物（1)、化合物（2) 以及化合物（6)的總含量。
[0339]S卩，上述化合物（2)以及化合物（6)以外的其他含氟醚化合物和上述雜質(zhì)的總含 量優(yōu)選20質(zhì)量％以下，特別優(yōu)選15質(zhì)量％以下。如果化合物（1)、化合物（2)以及化合物 (6)的總含量在上述范圍內(nèi)，則表面層的初期拒水拒油性、耐摩擦性、指紋污染去除性、潤滑 性、均勻性優(yōu)異。
[0340] 在本組合物含有化合物（2)的情況下，本組合物中的化合物（1)和化合物（2)的 質(zhì)量比（化合物（1) /化合物（2))優(yōu)選40/60以上且低于100/0,特別優(yōu)選50/50以上且低 于100/0。如果化合物（1)/化合物（2)在該范圍內(nèi)，則表面層的初期拒水拒油性、耐摩擦 性、指紋污染去除性、潤滑性、均勻性優(yōu)異。
[0341] 在本組合物含有化合物（6)的情況下，本組合物中的化合物（1)和化合物（6)的 質(zhì)量比（化合物（I) /化合物（6))優(yōu)選40/60以上且低于100/0,特別優(yōu)選50/50以上且低 于100/0。如果化合物（1)/化合物（6)在該范圍內(nèi)，則表面層的初期拒水拒油性、耐摩擦 性、指紋污染去除性、潤滑性、均勻性優(yōu)異。
[0342] 在本組合物含有化合物（2)和化合物（6)的情況下，本組合物中的化合物（1)和 化合物（2)以及化合物（6)的總量的質(zhì)量比（化合物（1)/[化合物（2) +化合物（6)])優(yōu) 選40/60以上且低于100/0,特別優(yōu)選50/50以上且低于100/0。如果化合物（1)/[化合物 (2) +化合物（6)]在該范圍內(nèi)，則表面層的初期拒水拒油性、耐摩擦性、指紋污染去除性、潤 滑性、均勻性優(yōu)異。
[0343] [涂布液]
[0344] 本發(fā)明的涂布液（以下記作本涂布液。）包括化合物（1)或本組合物、和介質(zhì)。介 質(zhì)優(yōu)選液狀。本涂布液只要是液狀即可，可以是溶液，也可以是分散液。以下，將本化合物 (1)和本組合物總稱為化合物（1)等。
[0345] 本涂布液只要含有化合物（1)等即可，可以含有化合物（1)的制造工序中生成的 副產(chǎn)物等雜質(zhì)。
[0346] 化合物⑴等濃度在本涂布液中優(yōu)選0. 001~10質(zhì)量％，特別優(yōu)選0. 1~1質(zhì) 量％。
[0347](介質(zhì)）
[0348] 作為介質(zhì)，優(yōu)選有機溶劑。有機溶劑可以是氟類有機溶劑，也可以是非氟類有機溶 劑，也可以含有兩種溶劑。
[0349] 作為氟類有機溶劑，可例舉氟代烷烴、氟代芳香族化合物、氟代烷基醚、氟代烷基 胺、氟代醇等。
[0350] 作為氟代烷烴，優(yōu)選碳數(shù)4~8的化合物。作為市售品，例如可例舉 C6F13H(AC-2000:產(chǎn)品名，旭硝子株式會社制）、C6F13C2H5(AC-6000:產(chǎn)品名，旭硝子株式會社 制）、C2F5ChFCHFCF3(Vertrel:產(chǎn)品名，杜邦公司制）等。
[0351] 作為氟代芳香族化合物，例如可例舉六氟苯、三氟甲苯、全氟甲苯、雙（三氟甲基） 苯等。
[0352] 作為氟代烷基醚，優(yōu)選碳數(shù)4~12的化合物。作為市售品，例如可例舉 CF3CH2OCF2CF2H(AE-3000:產(chǎn)品名，旭硝子株式會社制）X4F9OCH3(Novec-7100:產(chǎn)品名，3M公 司制）、C4F9OC2H5 (Novec-7200:產(chǎn)品名，3M公司制）、C6F13OCH3 (Novec-7300:產(chǎn)品名，3M公司 制）等。
[0353] 作為氟代烷基胺，例如可例舉全氟三丙胺、全氟三丁胺等。
[0354] 作為氟代醇，例如可例舉2, 2, 3, 3-四氟丙醇、2, 2, 2-三氟乙醇、六氟異丙醇等。
[0355] 作為氟類有機溶劑，從化合物（1)的溶解性的方面考慮，優(yōu)選氟代烷烴、氟代芳香 族化合物、氟代烷基醚，特別優(yōu)選氟代烷基醚。
[0356] 作為非氟類有機溶劑，優(yōu)選僅由氫原子以及碳原子構(gòu)成的化合物，和僅由氫原子、 碳原子以及氧原子構(gòu)成的化合物，可例舉烴類有機溶劑、醇類有機溶劑、酮類有機溶劑、醚 類有機溶劑、酯類有機溶劑。
[0357] 作為烴類有機溶劑，優(yōu)選己烷、庚烷、環(huán)己烷等。
[0358] 作為醇類有機溶劑，優(yōu)選甲醇、乙醇、1-丙醇、2-丙醇等。
[0359] 作為酮類有機溶劑，優(yōu)選丙酮、甲乙酮、甲基異丁酮等。
[0360] 作為醚類有機溶劑，優(yōu)選二乙基醚、四氫呋喃、四乙二醇二甲醚等。
[0361] 作為酯類有機溶劑，優(yōu)選乙酸乙酯、乙酸丁酯等。
[0362] 作為非氟類有機溶劑，從化合物（1)的溶解性的方面考慮，特別優(yōu)選酮類有機溶 劑。
[0363] 作為介質(zhì)，優(yōu)選選自氟代烷烴、氟代芳香族化合物、氟代烷基醚、僅由氫原子以及 碳原子構(gòu)成的化合物，以及僅由氫原子、碳原子以及氧原子構(gòu)成的化合物的至少1種有機 溶劑。尤其，優(yōu)選選自氟代烷烴、氟代芳香族化合物以及氟代烷基醚的氟類有機溶劑。
[0364] 從提高化合物（1)的溶解性的方面考慮，作為介質(zhì)，選自作為氟類有機溶劑的氟 代烷烴、氟代芳香族化合物、氟代烷基醚、作為非氟類有機溶劑的僅由氫原子、碳原子以及 氧原子構(gòu)成的化合物的至少1種有機溶劑優(yōu)選以總計占介質(zhì)全體的90質(zhì)量％以上的量含 有。
[0365] 本涂布液優(yōu)選以占介質(zhì)90~99. 999質(zhì)量％的量含有，特別優(yōu)選以占介質(zhì)99~ 99. 9質(zhì)量％的量含有。
[0366] 本涂布液在化合物（1)等以及介質(zhì)之外，在不損害本發(fā)明的效果的范圍內(nèi)，可含 有其他成分。
[0367] 作為其他成分，例如可例舉促進水解性甲硅烷基的水解和縮合反應(yīng)的酸催化劑或 堿性催化劑等公知的添加劑。
[0368] 作為酸催化劑，可例舉鹽酸、硝酸、乙酸、硫酸、磷酸、磺酸、甲磺酸、對甲苯磺酸等。
[0369] 作為堿性催化劑，可例舉氫氧化鈉、氫氧化鉀、氨等。
[0370] 本涂布液中的其他成分的含量優(yōu)選10質(zhì)量％以下，特別優(yōu)選1質(zhì)量％以下。
[0371] 本涂布液的固體成分濃度優(yōu)選0. 001~10質(zhì)量％，特別優(yōu)選0. 1~1質(zhì)量％。涂 布液的固體成分濃度是根據(jù)加熱前的涂布液的質(zhì)量、和在120°C的對流式干燥機中加熱4 小時后的質(zhì)量算出的值。此外，本組合物的濃度能夠根據(jù)固體成分濃度、和本組合物以及溶 劑等的添加量算出。
[0372][具有表面層的基材]
[0373] 本發(fā)明的具有表面層的基材具有由化合物（1)等形成的表面層。
[0374](表面層）
[0375] 在化合物（1)等中，化合物（1)中的水解性甲硅烷基（-SiLcR3J通過水解反應(yīng)而 形成硅烷醇基（Si-OH)，該硅烷醇基在分子間進行脫水縮合反應(yīng)而形成Si-O-Si鍵，或該硅 烷醇基與基材表面的羥基（基材-0H)進行脫水縮合反應(yīng)形成化學(xué)鍵（基材-0-Si)。即，本 發(fā)明中的表面層以化合物（1)的水解性甲硅烷基的一部分或全部成為了硅烷醇基的狀態(tài)、 或脫水縮合反應(yīng)后的狀態(tài)含有化合物（1)。
[0376](基材）
[0377] 本發(fā)明中的基材只要是要求賦予拒水拒油性的基材即可，沒有特別限定。作為基 材的材料，可例舉金屬、樹脂、玻璃、陶瓷、石、這些的復(fù)合材料。
[0378](觸摸屏）
[0379] 通過由化合物（1)等形成表面層，可在賦予優(yōu)異的初期拒水拒油性的同時，得到 即使反復(fù)摩擦該表面拒水拒油性也不易下降的優(yōu)異的耐摩擦性、可容易地去除該表面的指 紋污染的性能（指紋污染去除性）、手指接觸該表面時的滑動性（潤滑性）、表面層的均勻 性（透明性、平滑性、不均勻部分少）。因此，如此得到的具有表面層的基材由于在表面層具 有優(yōu)異的初期拒水拒油性的同時，還具有優(yōu)異的耐摩擦性、指紋污染去除性、潤滑性、均勻 性，適合作為構(gòu)成觸摸屏的部件。觸摸屏是指將通過手指等的接觸來輸入其接觸位置信息 的裝置和顯示裝置組合而成的輸入/顯示裝置（觸摸屏裝置）的輸入裝置。觸摸屏根據(jù)基 材和輸入檢測方式，由透明導(dǎo)電膜、電極、配線、IC等構(gòu)成。通過將基材的具有表面層的面 設(shè)為觸摸屏的輸入面，可得到表面層具有優(yōu)異的耐摩擦性、指紋污染去除性、潤滑性、均勻 性的觸摸屏。
[0380] 觸摸屏用基材的材質(zhì)具有透光性。"具有透光性"是指以JISR3106為基準(zhǔn)的垂 直入射型可見光透射率在25 %以上。
[0381] 作為觸摸屏用基材的材質(zhì)，優(yōu)選玻璃或透明樹脂。作為玻璃，優(yōu)選鈉鈣玻璃、堿鋁 硅酸鹽玻璃、硼硅酸玻璃、無堿玻璃、晶體玻璃、石英玻璃，特別優(yōu)選經(jīng)化學(xué)強化的鈉鈣玻 璃、經(jīng)化學(xué)強化的堿鋁硅酸鹽玻璃、以及經(jīng)化學(xué)強化的硼硅酸玻璃。作為透明樹脂，優(yōu)選丙 烯酸樹脂、聚碳酸酯。
[0382] 此外，作為本發(fā)明中的基材，還適用構(gòu)成液晶顯示器、CRT顯示器、投影顯示器、等 離子顯示器、EL顯示器等各種顯示器的最外表面的顯示器用基材，通過使用化合物（1)等 或本涂布液的表面處理來形成表面層，可得到表面層具有優(yōu)異的耐摩擦性、指紋污染去除 性、潤滑性、均勻性的顯示器。
[0383] [具有表面層的基材的制造方法]
[0384] (干式涂布法）
[0385] 化合物（1)等在通過干式涂布法對基材的表面進行處理、制造具有表面層的基材 的方法中可直接使用?；衔铮?)等適合通過干式涂布法形成密合性優(yōu)異的表面層。作 為干式涂布法，可例舉真空蒸鍍、CVD、濺射法等方法。從抑制化合物（1)的分解的方面、以 及裝置的簡便性的方面考慮，可適用真空蒸鍍法。真空蒸鍍法可細分為電阻加熱法、電子束 加熱法、高頻感應(yīng)加熱法、反應(yīng)性蒸鍍、分子束外延法、熱墻蒸鍍法、離子電鍍法、團簇離子 束法等，可采用任一種方法。從抑制化合物（1)的分解的方面、以及裝置的簡便性的方面考 慮，可適用電阻加熱法。對真空蒸鍍裝置沒有特別限定，可使用公知的裝置。
[0386] 使用真空蒸鍍法的情況下的成膜條件根據(jù)采用的真空蒸鍍法的種類而不同，但在 電阻加熱法的情況下，蒸鍍前真空度優(yōu)選IX10 2Pa以下，特別優(yōu)選IX10 3Pa以下。蒸鍍源 的加熱溫度只要是化合物（1)等蒸鍍源具有足夠蒸氣壓的溫度即可，沒有特別限制。具體 而言優(yōu)選30~400°C，特別優(yōu)選50~300°C。如果加熱溫度在上述范圍的下限值以上，則成 膜速度良好。如果在上述范圍的上限值以下，則不發(fā)生化合物（1)的分解，可對基材的表面 賦予初期拒水拒油性、耐摩擦性、指紋污染去除性。真空蒸鍍時，基材溫度優(yōu)選室溫（20~ 25°C)到200°C為止的范圍。如果基材溫度在200°C以下，則成膜速度良好。基材溫度的上 限值更優(yōu)選150°C以下，特別優(yōu)選100°C以下。
[0387] 在使用化合物（1)等、通過干式涂布法對表面進行處理的情況下，通過該處理在 基材的表面上形成的表面層的膜厚優(yōu)選1~l〇〇nm，特別優(yōu)選1~50nm。如果該表面層的膜 厚在上述范圍的下限值以上，則容易充分獲得通過該表面處理產(chǎn)生的效果。如果在上述范 圍的上限值以下，則利用效率高。另外，膜厚可使用例如薄膜分析用X射線衍射計ATX-G(理 學(xué)株式會社（RIGAKU社）制），通過X射線反射率法得到反射X射線的干渉圖案，由該干渉 圖案的振動周期算出。
[0388] 尤其，在真空蒸鍍法中，由于本組合物中的化合物（1)的含量多，雜質(zhì)的含量少， 因此初期拒水拒油性、耐摩擦性、指紋污染去除性的提高效果大。認(rèn)為這是由于以下現(xiàn)象得 到了抑制：作為雜質(zhì)的分子量小的副產(chǎn)物比化合物（1)先蒸鍍在基材的表面上，其結(jié)果是， 起到顯現(xiàn)性能的作用的化合物（1)和基材的表面的化學(xué)鍵合受阻。
[0389](濕式涂布法）
[0390] 通過將本涂布液涂布在基材的表面上、使其干燥，可制造具有表面層的基材。
[0391] 作為涂布液的涂布方法，可適當(dāng)?shù)夭捎霉姆椒ā?br>[0392] 作為涂布方法，優(yōu)選旋涂法、擦涂（7 4 7° 3-卜）法、噴涂法、刮刀涂布法、浸涂 法、模涂法、噴墨法、流涂法、混涂法、鑄涂法、朗繆爾-布洛爾杰特法或凹版涂布法。
[0393] 使其干燥的方法只要是可將介質(zhì)干燥去除的方法即可，可適當(dāng)?shù)夭捎霉姆?法。干燥溫度優(yōu)選10~300°C，特別優(yōu)選20~200°C。
[0394] 將介質(zhì)干燥去除后，形成于基材的表面的表面層的膜厚優(yōu)選1~100nm，特別優(yōu)選 1~50nm。如果該表面層的膜厚在上述范圍的下限值以上，則容易充分獲得通過該表面處 理產(chǎn)生的效果。如果在上述范圍的上限值以下，則利用效率高。另外，膜厚的測定可以與干 式涂布法所形成的表面層的膜厚的測定方法相同的方式進行。
[0395] (后處理）
[0396] 在通過上述干式涂布法或濕式涂布法在基材表面形成表面層后，為了提高該表面 層的對摩擦的耐久性，可以根據(jù)需要，進行用于促進化合物（1)和基材的反應(yīng)的操作。作為 該操作，可例舉加熱、加濕、光照射等。例如，可在具有水分的大氣中加熱形成了表面層的基 材，促進水解性甲硅烷基的向硅烷醇基的水解反應(yīng)、基材表面的羥基等與硅烷醇基的反應(yīng)、 通過硅烷醇基的縮合反應(yīng)的硅氧烷鍵的生成等反應(yīng)。
[0397] 表面處理后，可根據(jù)需要去除表面層中的沒有與其他化合物或基材進行化學(xué)鍵合 的化合物。作為具體的方法，例如可例舉在表面層上流過溶劑的方法、用浸透了溶劑的布進 行拭取的方法。
[0398] 實施例
[0399] 以下，通過實施例對本發(fā)明進行更詳細的說明，但本發(fā)明并不限定于這些實施例。
[0400] 以下，如無特別說明，" ％ "是指"質(zhì)量％"。此外，將由2種以上的化合物⑴構(gòu)成 的混合物記作"化合物"，將由化合物（1)和其他含氟醚化合物構(gòu)成的物質(zhì)記作"組合物"。
[0401] 例1~2、5~6、11~12、15~16、21~24為實施例，例3~4、7、13~14、17為 比較例。
[0402] [例1 :化合物⑷的制造]
[0403] (例 1-1)
[0404] 在300mL的3 口燒瓶中放入2. 9g20%KOH水溶液、33g叔丁醇、IlOgl, 3-雙（三 氟甲基）苯、220g化合物（10) (FLU0R0LINKD4000:產(chǎn)品名，蘇威蘇萊克斯公司制），加 入14. 6gCF3CF2CF2-0-CF=CF2。在氮氣氛下，以40°C攪拌20小時。用稀鹽酸水溶液清 洗1次，回收有機相，通過用蒸發(fā)器進行濃縮，得到233g粗產(chǎn)物（a)。將粗產(chǎn)物（a)用 115gC6F13H(AC-2000:產(chǎn)品名，旭硝子株式會社制）進行稀釋，在硅膠柱色譜中展開