的基板盒清洗裝置的第二清洗槽對內(nèi)部殼進行支承的狀態(tài)的俯視圖。
[0039]圖12B是示出本發(fā)明的實施方式的基板盒清洗裝置的第二清洗槽對內(nèi)部殼進行支承的狀態(tài)的側(cè)剖視圖。
[0040]圖13A是示出本發(fā)明的實施方式的基板盒清洗裝置的第二清洗槽對內(nèi)部底座進行支承的狀態(tài)的俯視圖。
[0041]圖13B是示出本發(fā)明的實施方式的基板盒清洗裝置的第二清洗槽對內(nèi)部底座進行支承的狀態(tài)的側(cè)剖視圖。
[0042]圖14A是示出本發(fā)明的實施方式的基板盒清洗裝置的、內(nèi)部容器被支承于第二清洗槽的狀態(tài)的俯視圖。
[0043]圖14B是示出本發(fā)明的實施方式的基板盒清洗裝置的、內(nèi)部容器被支承于第二清洗槽的狀態(tài)的側(cè)剖視圖。
[0044]圖15A是示出本發(fā)明的實施方式的基板盒清洗裝置的、外部容器被支承于第一清洗槽的狀態(tài)的俯視圖。
[0045]圖15B是示出本發(fā)明的實施方式的基板盒清洗裝置的、外部容器被支承于第一清洗槽的狀態(tài)的側(cè)剖視圖。
[0046]圖16A是示出本發(fā)明的實施方式的基板盒清洗裝置的搬送機構(gòu)中的把持機構(gòu)和升降機構(gòu)的立體圖。
[0047]圖16B是示出本發(fā)明的實施方式的基板盒清洗裝置的搬送機構(gòu)中的把持機構(gòu)的把持柄的要部的要部立體圖。
[0048]圖17A是示出本發(fā)明的實施方式的基板盒清洗裝置的把持機構(gòu)把持外部殼的狀態(tài)的圖。
[0049]圖17B是示出本發(fā)明的實施方式的基板盒清洗裝置的把持機構(gòu)把持外部底座的狀態(tài)的圖。
[0050]圖18A是示出本發(fā)明的實施方式的基板盒清洗裝置的把持機構(gòu)把持內(nèi)部殼的狀態(tài)的圖。
[0051]圖18B是示出本發(fā)明的實施方式的基板盒清洗裝置的把持機構(gòu)把持內(nèi)部底座的狀態(tài)的圖。
[0052]圖19是示出本發(fā)明的實施方式的基板盒清洗裝置的保持部的結(jié)構(gòu)的立體圖。
[0053]圖20A是示出本發(fā)明的實施方式的基板盒清洗裝置處理的基板盒的整體立體圖。
[0054]圖20B是示出本發(fā)明的實施方式的基板盒清洗裝置處理的基板盒的分解立體圖。
[0055]圖21是示出本發(fā)明的實施方式的基板盒清洗裝置處理的基板盒的外部底座的外側(cè)面的圖。
[0056]圖22是示出以往的基板盒清洗裝置的一個示例的圖。
【具體實施方式】
[0057]下面，根據(jù)附圖來對本發(fā)明實施方式的基板盒清洗裝置詳細地進行說明。
[0058]圖1至圖19所示的本發(fā)明實施方式的基板盒清洗裝置S處理基板盒C，所述基板盒C收納作為如圖20A和圖20B所示那樣的基板D的EUV掩模。近年來，例如，在硅片上描繪集成電路圖案的光刻技術(shù)中，隨著LSI (大規(guī)模集成電路)的高集成化而采用了作為在真空中被照射EUV(extreme ultrav1let:遠紫外線)光的基板的EUV掩模。上述基板盒C收納保管該EUV掩模，成為雙層結(jié)構(gòu)。該雙層結(jié)構(gòu)的基板盒C具備內(nèi)部容器N和外部容器。內(nèi)部容器N由內(nèi)部底座Nb和覆蓋該內(nèi)部底座Nb的內(nèi)部殼Ns構(gòu)成，并且在內(nèi)部容納作為基板D的掩模。外部容器M由對內(nèi)部容器N的內(nèi)部底座Nb進行支承的外部底座Mb和覆蓋外部底座Mb的外部殼Ms構(gòu)成，并且在內(nèi)部容納內(nèi)部容器N。這樣使基板盒C成為雙層結(jié)構(gòu)是為了徹底地防御基板D被外部空氣污染。外部容器M暴露于外部空氣中，但只要不刻意地將外部容器M打開，內(nèi)部容器N就不會暴露在外部空氣中。本基板盒清洗裝置S在未設(shè)置基板D的狀態(tài)下對基板盒C進行清洗。
[0059]如圖21所示，在外部容器M的外部底座Mb的中央設(shè)置有插銷型的鎖定部1，所述鎖定部I能夠?qū)⑼獠咳萜鱉的外部底座Mb和外部殼Ms、內(nèi)部容器N的內(nèi)部底座Nb和內(nèi)部殼Ns各部件鎖定成彼此不能脫離，并能夠?qū)⑦@些部件解除鎖定成能夠脫離。鎖定部I具有在外部底座Mb的外側(cè)面形成的插入孔2，在該插入孔2的內(nèi)部設(shè)置有機構(gòu)部(未圖不)。設(shè)置于后述的支承臺20的插銷驅(qū)動部21的插銷21a從該插入孔2被插入，通過插銷驅(qū)動部21的轉(zhuǎn)動動作而使鎖定部I能夠鎖定和解除鎖定。此外，供設(shè)置在后述的載置臺13的定位銷15插入的定位凹部3按等角度關(guān)系設(shè)置在三處。并且，供后述的支承臺20的卡合凸部23、和設(shè)置于第一清洗裝置40的蓋43的背面的定位用的卡合凸部91卡合的卡合凹部4與定位凹部3的外側(cè)相鄰地按等角度關(guān)系設(shè)置在三處。
[0060]如圖1至圖4所示，本發(fā)明實施方式的基板盒清洗裝置S具備室10，所述室10形成潔凈的空間。在室10設(shè)置有開口 11，所述開口 11能夠供基板盒C通過并且能夠利用閘板12進行開閉。閘板12借助于致動器12a進行開閉動作。在室10的開口 11的外部設(shè)置有載置臺13，基板盒C能夠以規(guī)定的朝向被定位并載置在該載置臺13的規(guī)定位置處。載置臺13以使基板盒C的外部底座Mb處于下方的方式支承基板盒C，如圖5所示那樣地形成為具有開放部14的叉狀，所述開放部14朝向室10側(cè)開放并使基板盒C的外部底座Mb的卡合凹部4露出。在載置臺13的上表面設(shè)置有三個定位銷15，所述三個定位銷15被插入定位于設(shè)置在外部底座Mb的背面的三個定位凹部3中。此外，在載置臺13的上表面設(shè)置有定位用的四個定位塊16，所述四個定位塊16對外部底座Mb的角部進行保持。
[0061 ] 此外，如圖1、圖2、圖6A至圖8E所示，基板盒清洗裝置S具備支承臺20，所述支承臺20在室10內(nèi)在使外部底座Mb處于下方地裝配成能夠在垂直方向上分離的狀態(tài)下支承基板盒C。支承臺20設(shè)置在移載機構(gòu)30上。具體而言，如圖6A所示，在支承臺20的中央設(shè)置有插銷驅(qū)動部21，所述插銷驅(qū)動部21從支承的基板盒C的外部底座Mb的插入孔2被插入來進行鎖定部I的鎖定和解除鎖定。插銷驅(qū)動部21是在能夠旋轉(zhuǎn)的圓盤上豎立設(shè)置多個插銷21a而形成的。設(shè)置有使插銷驅(qū)動部21的圓盤旋轉(zhuǎn)的致動器22。并且，在支承臺20的外周部設(shè)置有三個卡合凸部23，所述三個卡合凸部23與支承的基板盒C的外部底座Mb的三個卡合凹部4卡合。并且，在支承臺20上設(shè)置有四個空氣抽吸型的吸附盤24，所述吸附盤24吸附所支承的基板盒C的外部底座Mb。
[0062]此外，如圖1、圖2、圖7至圖8E所示，設(shè)置有支承臺20的移載機構(gòu)30構(gòu)成為，在基板盒C清洗前，使閘板12打開而將載置于載置臺13的基板盒C移載至支承臺20，并在基板盒C清洗后使閘板12打開而將被支承于支承臺20的基板盒C移載至載置臺13。該移載機構(gòu)30具備安裝支承臺20的機臺31。機臺31能夠在前進位置Rl和后退位置R2這兩個位置之間進行移動，所述前進位置Rl是機臺31前進到載置臺13側(cè)而在載置臺13與支承臺20之間進行基板盒C的接收和交付的位置，所述后退位置R2是機臺31后退到室10內(nèi)而在與后述的搬送機構(gòu)之間進行基板盒C的交付和接收的位置。此外，機臺31還能夠位于比后退位置R2更后退的初始位置R3。移載機構(gòu)30具備:導軌32，其將該移動的機臺31支承成能夠移動；和進退驅(qū)動部33，其具備使機臺31移動至前進位置Rl和后退位置R2這兩個位置、以及初始位置R3的例如滾珠絲杠機構(gòu)。
[0063]如圖8B和圖8C所示，支承臺20設(shè)置成能夠相對于移載機構(gòu)30的機臺31上下移動，在機臺31設(shè)置有上下驅(qū)動部34，所述上下驅(qū)動部34由使支承臺20上下移動的氣缸裝置構(gòu)成。移載機構(gòu)30通過在前進位置Rl處使支承臺20上升而使支承臺20的卡合凸部23與基板盒C的卡合凹部4卡合，并且利用吸附盤24吸附基板盒C而抬起基板盒C。然后，移載機構(gòu)30能夠使支承臺20在抬起基板盒C的狀態(tài)下通過載置臺13的開放口 14而進行移動。此外，當在機臺31的前進位置Rl處使支承臺20上升而使支承臺20的卡合凸部23與基板盒C的卡合凹部4卡合時，設(shè)置于支承臺20的插銷驅(qū)動部21進行鎖定部I的鎖定和解除鎖定。
[0064]并且，如圖1至圖3、圖9至圖15B所示，在室10內(nèi)設(shè)置有:第一清洗槽40，其在將外部容器M的外部底座Mb和外部殼Ms各部件分離的狀態(tài)下容納并清洗這些部件；和第二清洗槽50，其在將內(nèi)部容器N的內(nèi)部底座Nb和內(nèi)部殼Ns各部件分離的狀態(tài)下容納并清洗這些部件。上述的支承臺20、第一清洗槽40和第二清洗槽50沿著一個水平方向(Y軸方向)而串聯(lián)地排列。
[0065]此外，在室10內(nèi)具備搬送機構(gòu)60，所述搬送機構(gòu)60在支承臺20與所對應(yīng)的第一清洗槽40和第二清洗槽50之間對基板盒C的外部容器M和內(nèi)部容器N的各部件進行搬送。
[0066]具體而言，第一清洗槽40具備:槽主體42，其具有向上方開放的開口 41 ;和能夠開閉的蓋43，在搬送基板盒C的外部容器M的各部件時，所述蓋43使槽主體42的開口 41打開，在清洗各部件時使所述開口 41關(guān)閉。
[0067]此外，如圖9所示，第一清洗槽40具備:第一旋轉(zhuǎn)板44，其在槽主體42的底部設(shè)置成能夠以垂直方向的軸線為中心進行旋轉(zhuǎn)；第一旋轉(zhuǎn)驅(qū)動部45，其驅(qū)動第一旋轉(zhuǎn)板44旋轉(zhuǎn)；多個(四個)外部底座支承桿46，其豎立設(shè)置于第一旋轉(zhuǎn)板44并在規(guī)定的高度位置處對外部底座Mb的外緣的一部分(在實施方式中是四個角部)進行支承；和多個(四個)外部殼支承桿47，其豎立設(shè)置于第一旋轉(zhuǎn)板44并在與外部底座支承桿46不同的規(guī)定的高度位置處對外部殼Ms的外緣的一部分(在實施方式中是四個角部)進行支承。
[0068]外部底座支承桿46設(shè)定得高于外部殼支承桿47，在高于外部殼Ms的位置處對外部底座Mb進行支承。如圖9所示，在外部底座支承桿46和外部殼支承桿47各自的末端部具備:支承體48，其對各部件的角部進行支承；和引導銷49，其設(shè)置在支承體48的左右并對各部件的角的兩側(cè)進行引導。
[0069]此外，第一清洗槽40的多個外部底座支承桿46和多個外部殼支承桿47彼此豎立設(shè)置在旋轉(zhuǎn)方向的不同位置。在實施方式中，如圖9至圖15B所示，多個外部底座支承桿46和多個外部殼支承桿47以在旋轉(zhuǎn)方向上相位錯開45°的方式豎立設(shè)置。
[0070]另一方面，第二清洗槽50具備:槽主體52，其具有向上方開放的開口 51 ;和能夠開閉的蓋53，在搬送基板盒C的內(nèi)部容器N的各部件時，所述蓋53使槽主體52的開口 51打開，在清